一、高純水制取設(shè)備簡介
高(超)純水制取設(shè)備提供生產(chǎn)半導(dǎo)體、集成電路芯片及封裝、液晶顯示、高精度線路板、光電器件、各種電子器件等電子工業(yè)用超純水系統(tǒng)。產(chǎn)水水質(zhì)可達(dá)zui高可達(dá)18.3兆歐,符合電子行業(yè)生產(chǎn)所需超純水水質(zhì)要求。海揚(yáng)公司曾為國內(nèi)外多家電子工業(yè)廠家及制藥企業(yè)制作工業(yè)超純水設(shè)備。
二、高純水制取設(shè)備*工藝流程
1、預(yù)處理-反滲透-中間水箱-水泵-EDI裝置-純化水箱-純水泵-紫外線殺菌器-0.2或0.5 μ m精密過濾器-用水點(diǎn)
2、 預(yù)處理-反滲透-中間水箱-水泵-EDI裝置-純化水箱-純水泵-紫外線殺菌器-精制混床-0.2或0.5 μ m精密過濾器-用水點(diǎn)
三、高(超)純水工藝系統(tǒng)簡述
為滿足用戶需要,達(dá)到符合標(biāo)準(zhǔn)的水質(zhì),盡可能地減少各級(jí)的污染,在工藝設(shè)計(jì)上,取達(dá)國家自來水標(biāo)準(zhǔn)的水為源水,再設(shè)有介質(zhì)過濾器,活性碳過濾器,精密過濾器等預(yù)處理系統(tǒng)、雙級(jí)RO反滲透主機(jī)系統(tǒng)、EDI或離子交換混床系統(tǒng)等。
1、介質(zhì)過濾器主要作用是去除源水中的懸浮物質(zhì)及機(jī)械雜質(zhì)設(shè)備由優(yōu)質(zhì)不銹鋼材料制作而成。體內(nèi)裝有布水帽、精制石英砂等,亦可裝其它填料。合理的石英砂裝填比例及良好的布水系統(tǒng),使系統(tǒng)的產(chǎn)水水質(zhì)更加穩(wěn)定。另外設(shè)備還設(shè)有氣體沖刷功能,能zui大限度地清除介質(zhì)上及床層中的污垢,提高出水水質(zhì)和延長工作周期。
2、活性碳過濾器具有除臭、去色、除油、吸附有機(jī)物雜質(zhì)等作用,能zui大程度的去除水中的游離余氯,保證反滲透膜的進(jìn)水水質(zhì),設(shè)備由優(yōu)質(zhì)不銹鋼材料制成。
3、RO主機(jī)系統(tǒng)引進(jìn)上*的反滲透技術(shù),利用壓力差原理,能有效地去除水中的鹽類,脫鹽率可達(dá)到99%左右。
4、 EDI(電除鹽系統(tǒng))工作原理
高純度水對(duì)許多工商業(yè)工程非常重要,比如:半導(dǎo)體制造業(yè)和制藥業(yè)。以前這些工業(yè)用的純凈水是用離子交換獲得的。然而,膜系統(tǒng)和膜處理過程作為預(yù)處理過程或離子交換系統(tǒng)的替代品越來越流行。如電除鹽過程(EDI)之類的膜系統(tǒng)可以很干凈地去除礦物質(zhì)并可以連續(xù)工作而且,膜處理過程在機(jī)械上比離子交換系統(tǒng)簡單得多,并不需要酸、堿再生及廢水中和。
EDI處理過程是膜處理過程中增長zui快的業(yè)務(wù)之一。EDI是帶有特殊水槽的非反向電滲析(ED),這個(gè)水槽里的液流通道中填充了混床離子交換樹脂。
EDI主要用于把總固體溶解量(TDS)為1-20mg/L的水源制成8-17兆歐純凈水。通常水源是由反滲透(RO)產(chǎn)生。
ED和EDI都是用直流電作為除鹽的能源。如圖所示,溶液中的離子被吸向帶相反電荷的電極。
如圖所示,用陰、陽離子選擇膜把電極之間的空間隔成小室,這樣可以把一半小室中的鹽除去,而在另一半小室內(nèi)濃縮。不斷地給小室供水和抽水,就可以建立連續(xù)的除鹽處理過程。
ED和EDI中用的膜是用離子交換樹脂制成片狀,通常為了增加強(qiáng)度會(huì)在樹脂片上附一層布。
ED和EDI的物理區(qū)別(如圖3所示)主要在于除鹽室里填充的是混床離子交換樹脂珠。
離子的轉(zhuǎn)移分為2個(gè)步驟。首先離子擴(kuò)散到離子交換樹脂,然后在電場(chǎng)作用下穿過樹脂到達(dá)膜。因?yàn)檫@樣的電阻較小,電流會(huì)流過離子交換樹脂。EDI的濃縮室中沒有樹脂。
超純水水質(zhì):水質(zhì)符合美國ASTM標(biāo)準(zhǔn),電子部超純水水質(zhì)標(biāo)準(zhǔn)(18MΩ*cm,15MΩ*cm,2MΩ*cm和0.5MΩ*cm四級(jí))
高純水制取設(shè)備應(yīng)用范圍:半導(dǎo)體材料、器件、印刷電路板和集成電路;超純材料和超純化學(xué)試劑;實(shí)驗(yàn)室和中試車間;汽車家電表面拋光處理醫(yī)藥行業(yè)用水;其他高科技精微產(chǎn)品