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等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣象沉積設(shè)備

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具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 公司名稱北京維意真空技術(shù)應(yīng)用有限責(zé)任公司
  • 品       牌
  • 型       號PECVD
  • 所  在  地北京市
  • 廠商性質(zhì)生產(chǎn)廠家
  • 更新時(shí)間2017/10/17 8:13:36
  • 訪問次數(shù)551
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公司名稱(現(xiàn)用名):北京維意真空技術(shù)應(yīng)用有限責(zé)任公司
公司名稱(曾用名):北京科立方真空技術(shù)應(yīng)用有限公司
覆蓋區(qū)域:北京、天津河北

    北京維意真空技術(shù)應(yīng)用有限責(zé)任公司,原名北京科立方真空技術(shù)應(yīng)用有限公司,創(chuàng)立于2013年,位于中國·首都北京密云經(jīng)濟(jì)技術(shù)開發(fā)區(qū),主體經(jīng)營分為真空配件銷售、真空設(shè)備定制、淺藍(lán)納米科技三個(gè)部分,是北京從事真空產(chǎn)品設(shè)計(jì)、制造、銷售、維修、保養(yǎng)于一體的專業(yè)性的公司,公司擁有一支專業(yè)、優(yōu)秀的產(chǎn)品技術(shù)工程師和維修技術(shù)工程師,具有豐富的行業(yè)經(jīng)驗(yàn)同時(shí)還與北京工業(yè)大學(xué)聯(lián)合研發(fā)等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積系統(tǒng),與北京交通大學(xué)聯(lián)合研發(fā)原子層沉積系統(tǒng),滿足高校、研究所的教學(xué)、科研使用,同時(shí)減少相關(guān)進(jìn)口設(shè)備的*,并力爭創(chuàng)造外匯,打出中國創(chuàng)造的!  

    我們的客戶遍布北京各高校研究院所、電力試驗(yàn)所、各級的材料、物理、化學(xué)、納米等研究領(lǐng)域*的實(shí)驗(yàn)室,期待您就是我們的下一位客戶、朋友!

    您的滿意微笑是我們一直努力追求經(jīng)營目標(biāo)

技術(shù)創(chuàng)新、業(yè)務(wù)專業(yè)、服務(wù)誠信是我們一直遵循的經(jīng)營理念!

 

我們熱誠歡迎國內(nèi)外*的儀器制造商及科學(xué)工作者與我們聯(lián)系開展各層面的合作,打造成*的真空系統(tǒng)產(chǎn)品、等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)和原子層沉積系統(tǒng)供應(yīng)商。

ALD設(shè)備,PECVD設(shè)備
PECVD是借助于輝光放電等方法產(chǎn)生等離子體,輝光放電等離子體中:電子密度高109-1012cm3電子氣體溫度比普通氣體分子溫度高出10-100倍,使含有薄膜組成的氣態(tài)物質(zhì)發(fā)生化學(xué)反應(yīng),從而實(shí)現(xiàn)薄膜材料生長的一種新的制備技術(shù)。通過反應(yīng)氣態(tài)放電,有效地利用了非平衡等離子體的反應(yīng)特征,從根本上改變了反應(yīng)體系的能量供給方式低溫?zé)岬入x子體化學(xué)氣相沉積法具有氣相法的所有優(yōu)點(diǎn),工藝流程簡單。主要適應(yīng)于現(xiàn)代半
等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣象沉積設(shè)備 產(chǎn)品信息

 

PECVD是借助于輝光放電等方法產(chǎn)生等離子體,輝光放電等離子體中:電子密度高109-1012cm3電子氣體溫度比普通氣體分子溫度高出10-100倍,使含有薄膜組成的氣態(tài)物質(zhì)發(fā)生化學(xué)反應(yīng),從而實(shí)現(xiàn)薄膜材料生長的一種新的制備技術(shù)。通過反應(yīng)氣態(tài)放電,有效地利用了非平衡等離子體的反應(yīng)特征,從根本上改變了反應(yīng)體系的能量供給方式低溫?zé)岬入x子體化學(xué)氣相沉積法具有氣相法的所有優(yōu)點(diǎn),工藝流程簡單。主要適應(yīng)于現(xiàn)代半導(dǎo)體行業(yè)。

  • 輝光放電:在系統(tǒng)低于100Pa啟動(dòng)射頻電源可以實(shí)現(xiàn)輝光放電。
  • 加熱:系統(tǒng)可以設(shè)置30段溫控程序,彩屏系統(tǒng)預(yù)存15條燒培曲線,針對不同的樣品,設(shè)置不同的預(yù)設(shè)曲線,避免重復(fù)設(shè)置。
  • 自動(dòng)清洗功能:樣品放入線圈的區(qū)域,配置好參數(shù),系統(tǒng)會自動(dòng)抽真空,并通入設(shè)置的氣體,自動(dòng)啟動(dòng)輝光放點(diǎn)。
  • 自動(dòng)cvd功能:樣品放入線圈的區(qū)域,配置好參數(shù),系統(tǒng)會自動(dòng)抽真空,并通入設(shè)置的氣體,自動(dòng)啟動(dòng)輝光放點(diǎn)
  • 智能能模式:實(shí)現(xiàn)自動(dòng)清洗和cvd功能,樣品不需移出,清洗cvd功能一鍵完成,并能實(shí)現(xiàn)多次的循環(huán)操作。
  • 通氣時(shí)間可以設(shè)定:通過界面設(shè)置通氣時(shí)間,時(shí)間到后,系統(tǒng)自動(dòng)停止流量計(jì),達(dá)到節(jié)能環(huán)保的目的。
  • 恒定真空控制:系統(tǒng)設(shè)置一個(gè)真空度的數(shù)值配合手動(dòng)閥和真空泵,系統(tǒng)能實(shí)現(xiàn)真空的恒定。
  • 系統(tǒng)微正壓控制:系統(tǒng)設(shè)置一個(gè)正壓值,并配置好相應(yīng)的氣路,配合手動(dòng)放氣閥,可以實(shí)現(xiàn)系統(tǒng)微正壓的恒定;
  • 系統(tǒng)正壓保護(hù)功能:當(dāng)因?yàn)檎`操作或者其他原因,系統(tǒng)壓力超過保護(hù)值時(shí),系統(tǒng)會自動(dòng)關(guān)閉進(jìn)氣,保護(hù)設(shè)備。
  • 加熱爐膛移動(dòng)的速度可以調(diào)節(jié)。
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