PECVD是借助于輝光放電等方法產(chǎn)生等離子體,輝光放電等離子體中:電子密度高109-1012cm3電子氣體溫度比普通氣體分子溫度高出10-100倍,使含有薄膜組成的氣態(tài)物質(zhì)發(fā)生化學(xué)反應(yīng),從而實(shí)現(xiàn)薄膜材料生長的一種新的制備技術(shù)。通過反應(yīng)氣態(tài)放電,有效地利用了非平衡等離子體的反應(yīng)特征,從根本上改變了反應(yīng)體系的能量供給方式低溫?zé)岬入x子體化學(xué)氣相沉積法具有氣相法的所有優(yōu)點(diǎn),工藝流程簡單。主要適應(yīng)于現(xiàn)代半導(dǎo)體行業(yè)。
- 輝光放電:在系統(tǒng)低于100Pa啟動(dòng)射頻電源可以實(shí)現(xiàn)輝光放電。
- 加熱:系統(tǒng)可以設(shè)置30段溫控程序,彩屏系統(tǒng)預(yù)存15條燒培曲線,針對不同的樣品,設(shè)置不同的預(yù)設(shè)曲線,避免重復(fù)設(shè)置。
- 自動(dòng)清洗功能:樣品放入線圈的區(qū)域,配置好參數(shù),系統(tǒng)會自動(dòng)抽真空,并通入設(shè)置的氣體,自動(dòng)啟動(dòng)輝光放點(diǎn)。
- 自動(dòng)cvd功能:樣品放入線圈的區(qū)域,配置好參數(shù),系統(tǒng)會自動(dòng)抽真空,并通入設(shè)置的氣體,自動(dòng)啟動(dòng)輝光放點(diǎn)。
- 智能能模式:實(shí)現(xiàn)自動(dòng)清洗和cvd功能,樣品不需移出,清洗cvd功能一鍵完成,并能實(shí)現(xiàn)多次的循環(huán)操作。
- 通氣時(shí)間可以設(shè)定:通過界面設(shè)置通氣時(shí)間,時(shí)間到后,系統(tǒng)自動(dòng)停止流量計(jì),達(dá)到節(jié)能環(huán)保的目的。
- 恒定真空控制:系統(tǒng)設(shè)置一個(gè)真空度的數(shù)值配合手動(dòng)閥和真空泵,系統(tǒng)能實(shí)現(xiàn)真空的恒定。
- 系統(tǒng)微正壓控制:系統(tǒng)設(shè)置一個(gè)正壓值,并配置好相應(yīng)的氣路,配合手動(dòng)放氣閥,可以實(shí)現(xiàn)系統(tǒng)微正壓的恒定;
- 系統(tǒng)正壓保護(hù)功能:當(dāng)因?yàn)檎`操作或者其他原因,系統(tǒng)壓力超過保護(hù)值時(shí),系統(tǒng)會自動(dòng)關(guān)閉進(jìn)氣,保護(hù)設(shè)備。
- 加熱爐膛移動(dòng)的速度可以調(diào)節(jié)。