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在去除氮?dú)夥矫?,HP2加熱型氦氣純化器是的。在允許氮?dú)獯嬖诘膽?yīng)用里,非加熱型Metronics氦氣純化器提供了一個(gè)經(jīng)濟(jì)型選擇。
國(guó)產(chǎn)以及進(jìn)口的各型號(hào)氣相色譜儀。
◆ Valco可以凈化氦氣或者其他惰性氣體,如Ar、Ne、Kr、Xe中ppm級(jí)以下的活性氣體雜質(zhì)
載氣的純度在任何極度敏感的應(yīng)用里都是必要的,雜質(zhì)會(huì)限制檢測(cè)器的靈敏度,甚至損壞毛細(xì)管柱。
◆純化器的純化基質(zhì)是一種非蒸散型的熱激活性吸氣合金,這種穩(wěn)定的合金被裝載在一個(gè)焊接組件中,在預(yù)防措施極簡(jiǎn)單的工業(yè)應(yīng)用中也能安全的使用。
◆當(dāng)吸氣劑被加熱,顆粒表面的氧化層被消除,可以讓氦氣擴(kuò)散到大量的吸氣劑顆粒里面。
◆自我調(diào)節(jié)功能的設(shè)計(jì)使純化器保持吸氣劑原料在zui合適溫度,避免過(guò)熱引起運(yùn)行失控的可能性。
◆微型板被設(shè)計(jì)安裝在氣相色譜儀上游氣流路,連接進(jìn)樣口。
◆ HPM可以去除一切由流路控制器、彈性密封管、壓力調(diào)節(jié)器等和其他不*清潔和防漏的系統(tǒng)零部件產(chǎn)生的污染物。
型號(hào) | HP2 |
純化氣體 | He、Ne、Ar、Kr、Xe、Rn |
zui大工作壓力 | 1000psi |
zui高工作溫度 | 400℃ |
zui大流速 | 1L/min |
可去除雜質(zhì) | 可去除雜質(zhì):H2O、H2、O2、N2、NO、NH3、CO和CO2; 入口雜質(zhì)濃度:10ppm級(jí); 出口雜質(zhì)濃度:10ppb級(jí)以下; 其他可去除雜質(zhì)包括CF4、CCl4、SiH4和CH4等碳?xì)浠衔铩?/span> |
未去除雜質(zhì) | He、Ne、Ar、Kr、Xe、Rn |