HMDS鍍膜烤箱,HMDS真空鍍膜系統(tǒng)的重要性:
光刻涂膠工藝中絕大多數(shù)光刻膠是疏水的,而硅片表面的羥基和殘留的水分子是親水的,這造成光刻膠和硅片的黏合性較差,尤其是正膠,顯影時顯影液會侵入光刻膠和硅片的連接處,容易造成漂條、浮膠等,導致光刻圖形轉移的失敗,同時濕法腐蝕容易發(fā)生側向腐蝕。 在半導體生產工藝中,光刻是集成電路圖形轉移重要的一個工藝環(huán)節(jié),涂膠質量直接影響到光刻的質量,涂膠工藝也顯得尤為重要。增黏劑HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善這種狀況。將HMDS涂到硅片表面后,經(jīng)烘箱加溫可反應生成以硅氧烷為主體的化合物。它成功地將硅片表面由親水變?yōu)槭杷?,其疏水基可很好地與光刻膠結合,起著偶聯(lián)劑的作用。
HMDS鍍膜烤箱,HMDS真空鍍膜系統(tǒng)主要技術性能:
電源電壓:AC 220V±10%/50Hz±2%
輸入功率:2500W
控制方式:PLC+人機界面,自動和手動
控溫范圍:RT+10℃-250℃
溫度分辨率:0.1℃
溫度波動度:±0.5℃,升溫速率可控
達到真空度:133Pa(1torr),全程可監(jiān)控
工作室尺寸(mm):450*450*450、350*350*350(可自定義)
的*性:
預處理性能更好,更加均勻;效率高,一次可以處理多達4盒的晶片;更加節(jié)省藥液;低液報警、防藥液泄漏等具有很強的安全保護功能;,有可自動吸取添加HMDS功能,智能型的程式設定,一鍵完成作業(yè)。