1.設備簡介
?小型磁控濺射鍍膜儀，主要特點是設備體積小，結構簡單緊湊易于操作，對實驗室供電要求低；該系列設備主要部件采用進口或者優(yōu)的配置，從而提高設備的穩(wěn)定性；另外自主開發(fā)的智能操作系統(tǒng)在設備的運行重復性及安全性方面得到更好地保障。 目前該系列有基本型、旗艦型、豪華型、尊享型4種不同配置可供選擇，可以根據(jù)客戶的不同需求進行配置，比較靈活；標配2只Φ2英寸永磁靶，一臺500W直流濺射電源，主要用來開發(fā)納米級單層及多層的金屬導電膜、半導體膜以及絕緣膜等。
2.設備主要優(yōu)勢
????2.1??實用性：設備集成度高，結構緊湊，占地面積小，可以滿足客戶實驗室空間不足的苛刻條件；通過更換設備上下法蘭可以實現(xiàn)磁控與蒸發(fā)功能的轉換，實現(xiàn)一機多用；
????2.2??方便性：設備需要拆卸的部分均采用即插即用的方式，接線及安裝調試簡單，既保證了設備使用方便又保證了設備的整潔；
????2.3??高性價比：設備主要零部件采用進口或國內，以國產設備的價格擁有進口設備的配置，從而保證了設備的質量及性能；
????2.4??安全性：獨立開發(fā)的PLC+觸摸屏智能操作系統(tǒng)在傳統(tǒng)操作系統(tǒng)的基礎上新具備了漏氣自檢與提示、通訊故障自檢、保養(yǎng)維護提示等功能，保證了設備的使用安全性能；
3.主要技術參數(shù)
???3.1?腔室尺寸：Ф246×228mm，1Cr18Ni9Ti優(yōu)質不銹鋼材質，氬弧焊接；
???3.2?樣品臺尺寸：Ф75mm，高度：60～120mm可調，旋轉：0-20r/min可調；
???3.3?真空系統(tǒng)：機械泵（TRP-12,3L/s）+Pfeiffer分子泵(Hipace80,67L/s)（可選國產分子泵）；GDC-25b電磁擋板閥，DN25mm?限流閥；
???3.4?極限真空：8.0×10-5Pa；
???3.5?真空抽速：大氣～8×10-4Pa?≤?20min；
???3.6?真空測量：全量程復合真空計，測量范圍：105Pa～10-5Pa；
???3.7?磁控靶：Φ2英寸2只（含靶擋板），兼容直流電源和射頻電源；
???3.8?濺射電源：直流和射頻可選；
???3.9?質量流量計：20sccm、50sccm質量流量控制器各一套；
???3.10控制方式：PLC+觸摸屏智能控制系統(tǒng)，具備漏氣自檢與提示、通訊故障自檢、保養(yǎng)維護提示等功能；
???3.11設備外形：L60cm×W60cm×H96cm機電一體化機架，預留1個KF40法蘭接口；
???3.12?設備供電總功率≤2KW，220V，單相三線制（一火一零一地）；
???3.13?冷卻循環(huán)系統(tǒng)：水壓0.2～0.4MPa，水溫10～25℃，給設備相關需水冷部件提供穩(wěn)定的制冷水
公司名稱（現(xiàn)用名）：北京維意真空技術應用有限責任公司
公司名稱（曾用名）：北京科立方真空技術應用有限公司
覆蓋區(qū)域：北京、天津、河北
北京維意真空技術應用有限責任公司，原名北京科立方真空技術應用有限公司，創(chuàng)立于2013年，位于中國·首都北京密云經濟技術開發(fā)區(qū)，主體經營分為真空配件銷售、真空設備定制、淺藍納米科技三個部分，是北京從事真空產品設計、制造、銷售、維修、保養(yǎng)于一體的專業(yè)性的公司，公司擁有一支專業(yè)、優(yōu)秀的產品技術工程師和維修技術工程師，具有豐富的行業(yè)經驗，同時還與北京工業(yè)大學聯(lián)合研發(fā)等離子體增強化學氣相沉積系統(tǒng)，與北京交通大學聯(lián)合研發(fā)原子層沉積系統(tǒng)，滿足高校、研究所的教學、科研使用，同時減少相關進口設備的*，并力爭創(chuàng)造外匯，打出中國創(chuàng)造的！
我們的客戶遍布北京各高校和研究院所、電力試驗所、各級的材料、物理、化學、納米等研究領域*的實驗室，期待您就是我們的下一位客戶、朋友！
您的滿意微笑是我們一直努力追求的經營目標！
技術創(chuàng)新、業(yè)務專業(yè)、服務誠信是我們一直遵循的經營理念！
我們熱誠歡迎國內外*的儀器制造商及科學工作者與我們聯(lián)系開展各層面的合作,打造成*的真空系統(tǒng)產品、等離子體增強化學氣相沉積系統(tǒng)和原子層沉積系統(tǒng)供應商。
ALD設備，PECVD設備
小型磁控濺射鍍膜機 產品信息
