脫硝裝置設(shè)備廠家簡介：
選擇性催化還原法（SCR）煙氣脫硝技術(shù)
氮氧化物（NOX）的生成機理
煤燃燒產(chǎn)生的NOX的生成途徑主要有3類：
熱力型 ：燃燒用空氣中的氮氣與氧氣在高溫下氧化而生成。
快速型 ：燃料中的碳氫化合物在燃料濃度較高的區(qū)域燃燒時所產(chǎn)生的烴與空氣中的氮氣發(fā)生反應，形成的CN和HCN等化合物繼續(xù)被氧化而生成。
燃料型 ：燃料中氮的化合物在燃燒過程中熱分解，進一步被氧化而生成。
脫硝裝置設(shè)備廠家特點：
1.不使用催化劑、不增加系統(tǒng)阻力、不受煤種影響
2.系統(tǒng)簡單、投資少、占地面積小、施工時間短
3.操作方便、運行費用低
4.無高壓設(shè)備、無腐蝕、*沒有安全隱患
關(guān)鍵技術(shù)：
1、計算機模擬技術(shù)。
包括計算機模擬流體動力技術(shù)（CFD）和化學動力模型技術(shù)（CKM）。
利用CFD 軟件模擬鍋爐內(nèi)煙氣流場和溫度場。
利用CKM 模型計算還原劑與NOX的反應速度。
根據(jù)計算結(jié)果，確定在不同鍋爐負荷和不同煤種條件下爐膛內(nèi)溫度區(qū)域，確定噴射器布置方案。
2、具有高霧化性能的噴射器。
噴射器使用壓縮空氣作為霧化介質(zhì)，將脫硝劑霧滴導入煙氣流中。
該噴射器產(chǎn)生的液滴尺寸小、分布均勻、滲透力強，保證了脫硝劑能夠與煙氣中NOX的充分接觸，從而獲得較高的脫硝效率和較低的氨逃逸率。
3、伸縮式多噴嘴管式噴射器
多噴嘴管式噴射器能夠使脫硝劑直接均勻地噴射在煙氣流中，進一步提高了脫硝效率、降低氨逃逸率。
4、的監(jiān)視手段及專門的工藝控制技術(shù)
溫度監(jiān)測系統(tǒng)是一個能夠連續(xù)測量光學溫度計，溫度計通過感應飛灰粒子所發(fā)出可見光來測量爐膛內(nèi)煙氣溫度，確定脫硝劑的噴射區(qū)域。
針對SNCR工藝開發(fā)的專門的控制系統(tǒng)可以保證SNCR技術(shù)有較好的負荷跟隨能力，保證SNCR 系統(tǒng)在運行過程中保持較好工況。
氮氧化物（NOX）污染控制技術(shù)
根據(jù)NOX生成機理，采取的控制措施分為2大類：
采用低氮燃燒技術(shù)：抑制燃燒過程中NOX的生成。
例如：低氮燃燒器、空氣分級燃燒、燃料分級燃燒。
煙氣脫硝法：對生成的NOX進行處理。
例如：選擇性催化還原（SCR）、選擇性非催化還原（SNCR） 、SCR/SNCR混合法。
選擇性催化還原法（SCR）
選擇性催化還原法（Selective Catalytic Reduction，簡稱SCR）在一定的反應溫度條件下，使煙氣中的 NOX和還原劑NH3在催化劑作用下發(fā)生還原反應，生成產(chǎn)物為無毒無污染的N2和H2O。
反應器的布置方式（高溫高塵布置）
脫硝裝置設(shè)備報價主要技術(shù)指標 ：
脫硝效率 ≥80%
氨逃逸率 ≤3 ppm
SO2/SO3轉(zhuǎn)換率 ≤1%
系統(tǒng)阻力 ≤1000 Pa（3層）
催化劑壽命 ≥16000 / 24000 h
清灰設(shè)備的選擇
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| 聲波清灰器 | 耙式蒸汽清灰器 |
SCR系統(tǒng)組成
尿素熱解技術(shù)在SCR脫硝工程中的應用
工藝操作簡潔可靠，基本不需人力和維護，不需備用設(shè)備。
◇ 尿素系統(tǒng)不需防火和安全間距，占地面積小。
◇ 低量油耗或無油耗，運行費用低。
◇ 負荷變化的跟隨能力強，響應時間短至5～30秒。
◇ 停止加氨后，系統(tǒng)中無氨的駐留，無氨泄漏的困擾。
◇ 無高壓設(shè)備、無腐蝕、無氨爆炸濃度之慮。
◇ *沒有安全隱患。
尿素熱解工藝流程
熱量來源（315～540℃熱風）
選擇性非催化還原法(SNCR)
SNCR基本原理
選擇性非催化還原法（Selective Non-Catalytic Reduction，簡稱SNCR）是在不需要催化劑的情況下，將氨基還原劑（尿素/氨水）噴入溫度為850℃~1250℃的煙氣中，還原劑有選擇性地與煙氣中的氮氧化物（NOX）發(fā)生化學反應，使NOX還原生成氮氣（N2）和水（H2O）的方法。
主要的化學反應：
以氨水為還原劑：4NH3+4NO+O2=4N2+6H2O
以尿素為還原劑：CO (NH2)2 + 2NO + 1/2O2 = 2N2 + CO2 + 2H2O
NCR示意圖
SNCR脫硝工藝是以爐膛、分離器為反應器進行煙氣脫硝反應。
還原劑通過安裝在CFB鍋爐分離器入口或屏式過熱器區(qū)域的噴嘴噴入爐膛，還原劑與煙氣混合發(fā)生化學反應。
SNCR工藝流程圖
尿素溶液制備與存儲系統(tǒng)
顆粒尿素溶解罐
高流量循環(huán)模塊(HFD)+背壓控制閥(PCV)
HFD用于輸送一定壓力及流量的還原劑溶液，并與還原劑溶液儲罐形成循環(huán)回路。
PCV用于調(diào)節(jié)循環(huán)回路所需的穩(wěn)定流量和壓力。
設(shè)備：過濾器、2臺多級離心泵、在線電加熱器、壓力控制閥以及用于遠程控制和監(jiān)測循環(huán)系統(tǒng)的壓力、溫度、流量以及濃度等的儀表。
高流量循環(huán)模塊
稀釋計量模塊(DW-DM)
MDM能夠精確測量并獨立控制輸送到每個噴射器的還原劑溶液。
設(shè)備：過濾器，溫度、壓力、流量監(jiān)測儀表，控制閥門等。
分配模塊(MDM)
MDM能夠精確測量并獨立控制輸送到每個噴射器的還原劑溶液。
設(shè)備：過濾器，溫度、壓力、流量監(jiān)測儀表，控制閥門等。
噴射系統(tǒng)
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| 前墻短噴射槍 | 兩側(cè)墻長噴射槍 |
| DCS / PLC控制系統(tǒng) | SNCR控制系統(tǒng) |
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