UV光催化氧化廢氣處理器

一、概述

本產品利用高能高臭氧UV紫外線光束分解空氣中的氧分子產生游離氧，即活性氧，因游離氧所攜正負電子不平衡所以需與氧分子結合，進而生成臭氧；

UV＋O₂→O^-+O^＊(活性氧)O+O₂→O₃(臭氧),臭氧與呈游離狀態(tài)污染物質原子聚合，生成新的、無害或低害物質，如CO₂、H₂O等。同時在污染體系中投加一定量的光敏半導體材料，結合一定量的光輻射，使光敏半導體在光的照射下激發(fā)產生電子-空穴對，吸附在半導體上的溶解氧、水分子等與電子-空穴作用，產生·HO等氧化性*的自由基，再通過與污染物之間的羥基加和、取代、電子轉移等式污染物全部或接近全部氧化。

二、作用過程：

刺激性氣味氣體利用排風設備輸入到UV光解凈化設備后，凈化設備運用高能UV紫外線光束及臭氧對惡臭氣體進行協(xié)同裂解、氧化反應，使惡臭氣體物質其降解轉化成低分子化合物、水和二氧化碳，再通過排風管道排出室外。

三、產品特點：

本產品利用特制的高能高臭氧UV紫外線光束照射惡臭氣體物質分子鍵，裂解刺激性臭味氣體物質如：氨、*胺、硫化氫、甲硫氫、甲硫醇、甲硫醚、二甲二硫、二硫化碳和苯乙烯，硫化物H2S、VOC類，苯、甲苯、二甲苯的分子鍵，在半導體催化劑的作用下，使呈游離狀態(tài)的污染物原子與臭氧氧化聚合成小分子無害或低害物質，如CO2、H2O等。利用高能UV光束裂解惡臭氣體中細菌的分子鍵，破壞細菌的核酸(DNA)，再通過臭氧，在半導體催化劑的作用下，進行催化氧化反應，*達到脫臭及殺滅細菌的目的。

四、產品性能：

• 高效除惡臭：能高效去除揮發(fā)性有機物（VOC）、無機物、硫化氫、氨氣、硫醇類等主要污染物，以及各種惡臭味，脫臭效率高，脫臭效果大大超過國家1993年頒布的惡臭污染物排放標準（GB14554-93）。
• 適應性強：可適應高濃度，大氣量，不同惡臭氣體物質的脫臭凈化處理，可每天24小時連續(xù)工作，運行穩(wěn)定可靠。
• 運行成本低：本設備無任何機械動作，無噪音，無需專人管理和日常維護，只需作定期檢查，本設備能耗低，設備風阻低,可節(jié)約大量排風動力能耗。
• 無需溫濕度處理：惡臭氣體無需進行特殊的預處理，如加溫、加濕等,設備工作環(huán)境溫度在攝氏-30°－95°之間，濕度在40%－98%之間均可正常工作。
• 設備占地面積小，自重輕：適合于布置緊湊、場地狹小等特殊條件。
• 優(yōu)質進口材料制造：防火、防腐蝕性能高，性能穩(wěn)定，使用壽命長。
• 環(huán)保高科技產品：通過專家及我公司工程技術人員*反復的試驗，開發(fā)研制出的，具有*自主知識產權的高科技環(huán)保凈化產品，可*分解惡臭氣體中有毒有害物質，并能達到*的脫臭效果，經分解后的惡臭氣體，可*達到無害化排放，絕不產生二次污染，同時達到高效消毒殺菌的作用。