Ansgtrom Sun公司設(shè)計角度調(diào)整模型，通過5度間隔后精確預(yù)置槽移動手臂手動調(diào)節(jié)角度和電動精密測角0.01度分辨率兩種模型。此外，測角垂直布局設(shè)計，樣品可以水平放置，這是更安全的處理樣品時?？煽康暮妥銐虻脑紨?shù)據(jù)集，更多膜的性能參數(shù)，如薄膜或涂層 厚度，光學常數(shù)（折射率n，消光系數(shù)k指數(shù)）、接口、孔隙度甚至成分可以通過建模。在這個意義上，*的軟件是一個必須為高性能光譜橢偏儀（SE）工具。我們開發(fā)了TFprobe 3 x版軟件的系統(tǒng)設(shè)置。仿真，測量，分析，數(shù)據(jù)管理和2D / 3D圖形演示的一體機。 此外，SE200工具覆蓋了很寬的波長范圍內(nèi)，從深紫外線（DUV）在可見光到近紅外（250～1100nm），標準配置。DUV范圍適合衡量超薄膜，如納米厚度范圍。一個例子是在硅晶片上的原生氧化層，這是典型的2nm厚。深紫外光譜橢偏儀也是*的，用戶需要測量多種材料的帶隙。
First-Nano System GmbH
2003年 創(chuàng)立于德國德累斯頓工業(yè)大學（Dresden University of Technology）
2008年 香港成立德國韋氏納米系統(tǒng)（香港）有限公司
2015年 上海成立德國韋氏納米系統(tǒng)（香港）有限公司中國代表處，負責中國區(qū)業(yè)務(wù)
2018年 深圳正式成立韋氏納米系統(tǒng)（深圳）有限公司，更好的為中國南方區(qū)市場
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產(chǎn)品范圍：
薄膜沉積/Thin Film Deposition
E-Beam and Thermal Evaporation, PECVD, PLD, DLC, DC & RF Sputtering, Ion Beam Sputtering
刻蝕/Etching
RIE, DRIE, ICP, Ion Beam Milling, RIBE, Plasma, ALE
薄膜制程/Growth
ALD, PA-MOCVD, CNT, Graphene
表面處理/Surface Treatment
Ion Beam, PIII, Plasma Cleaner, RTP
清洗/Cleaning
- Dry: Ion Beam, Plasma Cleaner
- Wet: Megasonic, 杜邦EKC清洗液
光學透鏡和儀器，實驗室器具，專用儀器儀表，電化學設(shè)備和部件
橢偏儀 產(chǎn)品信息
關(guān)鍵詞：橢偏儀
