三級(jí)EDI膜堆/EDI設(shè)備
三級(jí)EDI膜堆/EDI設(shè)備概念
“三級(jí)EDI”是本公司專(zhuān)為需要生產(chǎn)18~18.2MΩ.cm的超純水用戶(hù)而開(kāi)發(fā)的發(fā)明的一種“陽(yáng)陰混混”組合式EDI膜堆。即一級(jí)EDI的純水室采用陽(yáng)陰樹(shù)脂分層填充，二級(jí)EDI的純水室采用除SiO2型電子級(jí)混床樹(shù)脂填充，三級(jí)EDI采用除TOC拋光樹(shù)脂充填。
三級(jí)EDI膜堆的技術(shù)特點(diǎn)是復(fù)床式一級(jí)EDI功能相當(dāng)于二級(jí)RO功能，可去除一級(jí)RO產(chǎn)水中的大部分離子;二級(jí)EDI對(duì)SiO2有*的去除率,三級(jí)EDI對(duì)有機(jī)碳TOC有*的去除率,其終端產(chǎn)水電阻率可穩(wěn)定達(dá)到18~18.2MΩ.cm，TOC<4ppb，SiO2<1ppb。
二級(jí)EDI膜堆的優(yōu)點(diǎn)
◎在原水含鹽量高達(dá)500~1000ppm時(shí)，可采用一級(jí)RO+三級(jí)EDI超純水工藝制取超純水而不需要二級(jí)RO設(shè)備和拋光混床精提純
設(shè)備，節(jié)約了拋光混床耗品費(fèi)用，降低系統(tǒng)投資費(fèi)用，其產(chǎn)水質(zhì)量穩(wěn)定可靠，產(chǎn)水電阻率18~18.2MΩ.cm；
◎在原水含鹽量低于500ppm時(shí)，采用一級(jí)RO+三級(jí)EDI超純水工藝制取超純水，其預(yù)處理的反滲透膜元件使用壽命可延長(zhǎng)1~2年，大大降低預(yù)處理RO膜更換的費(fèi)用；
◎無(wú)需酸堿再生，無(wú)污水排放，無(wú)耗品產(chǎn)生，電再生連續(xù)制水，保證全天候供水；
二級(jí)EDI膜堆技術(shù)參數(shù)
◎在原水含鹽量<1000ppm時(shí)，采用一級(jí)反滲透產(chǎn)水為三級(jí)EDI進(jìn)水
◎TDS：＜30ppm
◎pH：6.0～8.0，三級(jí)EDI*工作的pH范圍為7±0.5;
◎溫度：5～35℃,*工作溫度為25℃;
◎進(jìn)水壓力：≤4bar（60psi）；
◎硬度（以CaCO3計(jì)）：＜0.5ppm；
◎有機(jī)物（TOC）：＜0.5ppm；
◎氧化劑：Cl2＜0.05ppm，O3＜0.02ppm；
◎變價(jià)金屬：Fe＜0.02ppm，Mn＜0.04ppm；
◎H2S：＜0.01ppm；
◎二氧化硅：＜0.5ppm；
◎二氧化碳的總量：＜10ppm；
◎進(jìn)水電導(dǎo)率：<50μS/cm。
