催化燃燒廢氣處理設備當吸附進行一段時間后,由于表面吸附質的濃集,使其吸附能力明顯下降而吸附凈化的要求,此時需要采用一定的措施使吸附劑上已吸附的吸附質脫附,以協(xié)的吸附能力,這個過程稱為吸附劑的再生。因此在實際吸附工程中,正是利用吸附一再生一再吸附的循環(huán)過程,達到除去廢氣中污染物質并回收廢氣中有用組分。
各種粒子溫度幾乎相同系處于熱力學平衡狀態(tài),它主要應用在受控熱核反應研究方面。而低溫等離子體則學非平衡狀態(tài),各種粒子溫度并不相同。其中電子溫度( Te)≥離子溫度(Ti),可達104K以上,而其離子和中性粒子的溫度卻可低到300~500K。一般氣體放電子體屬于低溫等離子體。
催化燃燒廢氣處理設備
PLC控制系統(tǒng)自動運行,無需人員管理。
光催化是常溫深度反應技術。光催化氧化可在室溫下將水、空氣和土壤中有機污染物*氧化成無毒無害的產(chǎn)物,而傳統(tǒng)的高溫焚燒技術則需要在*的溫度下才可將污染物摧毀,即使用常規(guī)的催化、氧化方法亦需要高溫。
從理論上講,只要半導體吸收的光能不小于其帶隙能,就足以激發(fā)產(chǎn)生電子和空穴,該半導體就有可能用作光催化劑。常見的單一化合物光催化劑多為金屬氧化物或硫化物,如 Ti0。、Zn0、ZnS、CdS及PbS等。這些催化劑各自對特定反應有突出優(yōu)點,具體研究中可根據(jù)需要選用,如CdS半導體帶隙能較小,跟太陽光譜中的近紫外光段有較好的匹配性能,可以很好地利用自然光能,但它容易發(fā)生光腐蝕,使用壽命有限。相對而言,Ti02的綜合性能較好,是廣泛使用和研究的單一化合物光催化劑。
原理:將有臭味地氣體通過煙囪排至大氣,或用無臭空氣稀釋,降低惡臭物質濃度以減少臭味。適用范圍:適用于處理中、低濃度的有組織排放的惡臭氣體。優(yōu)點:費用低、設備簡單。缺點:易受氣象條件限制,惡臭物質依然存在。