光氧廢氣處理設(shè)備該工藝適合于VOCs濃度較高、溫度較低的氣體凈化,其他情況下需要作相應(yīng)的工藝調(diào)整。其原理是用過(guò)量的空氣使這些雜質(zhì)燃燒,大多數(shù)生成二氧化碳和水蒸氣,可以排放到大氣中。但當(dāng)處理含氯和含硫的有機(jī)化合物時(shí),燃燒生成產(chǎn)物中HCl或SO2,需要對(duì)燃燒后氣體進(jìn)一步處理。
光氧廢氣處理設(shè)備將惡臭物質(zhì)以曝氣形式分散到含活性污泥的混和液中,通過(guò)懸浮生長(zhǎng)的微生物降解惡臭物質(zhì) 適用范圍廣。優(yōu)點(diǎn):活性污泥經(jīng)過(guò)馴化后,對(duì)不超過(guò)極限負(fù)荷量的惡臭成分,去除率可達(dá)99.5%以上。缺點(diǎn):受到曝氣強(qiáng)度的限制,該法的應(yīng)用還有一定局限。
反應(yīng)塔內(nèi)裝填特制的固態(tài)填料,填料內(nèi)部復(fù)配多介質(zhì)催化劑。當(dāng)惡臭氣體在引風(fēng)機(jī)的作用下穿過(guò)填料層,與通過(guò)特制噴嘴呈發(fā)散霧狀噴出的液相復(fù)配氧化劑在固相填料表面充分接觸,并在多介質(zhì)催化劑的催化作用下,惡臭氣體中的污染因子被充分分解。適用范圍:適用范圍廣,尤其適用于處理大氣量、中高濃度的廢氣,對(duì)疏水性污染物質(zhì)有很好的去除率。優(yōu)點(diǎn):占地小,投資低,運(yùn)行成本低;管理方便,即開(kāi)即用。缺點(diǎn):耐沖擊負(fù)荷,不易污染物濃度及溫度變化影響,需消耗一定量的藥劑。
低溫等離子體空氣凈化設(shè)備能夠顯著治理的污染有:VOC、惡臭氣體、異味氣體、油煙、粉塵,也可用于消毒殺菌。低溫等離子體技術(shù)是一種全新的凈化過(guò)程,不需要任何添加劑、不產(chǎn)生廢水、廢渣,不會(huì)導(dǎo)致二次污染。
適用場(chǎng)所:
① 污水處理廠預(yù)處理、生化處理、污泥處理過(guò)程惡臭氣體的凈化和治理。
② 垃圾處理過(guò)程中的堆放、分揀、堆肥、填埋、焚燒以及垃圾滲濾液污水處理站惡臭氣體
的凈化和治理。
③ 涂料與噴漆、煉焦、制藥、橡膠塑料、印染皮革、有機(jī)染料及合成材料廠和發(fā)酵
制藥、石油化工、制鞋廠、印刷廠、造紙廠、畜牧養(yǎng)殖、飼料加工、糞便處理等惡臭氣體凈化和治理。