UV光解廢氣處理設備去除了廢氣中含有的部分酸性氣體和粉塵。廢氣仍然由下而上進入燃燒塔，在燃燒塔中燃燒后，除去了廢氣中含有的有機物，后再經(jīng)過一層水幕除塵過程，再去除氣體中因燃燒產(chǎn)生的粉塵，燃燒后的二氧化碳和水就排入大氣中即可。
在上升過程中與來自塔頂?shù)奈談┠媪鹘佑|，凈化后的氣體由塔頂排出。吸收了VOCs的吸收劑通過熱交換器后，進入汽提塔頂部，在溫度高于吸收溫度或壓力低于吸收壓力的條件下解吸。解吸后的吸收劑經(jīng)過溶劑冷凝器冷凝后回到吸收塔。解吸出的VOCs氣體經(jīng)過冷凝器、氣液分離器后以較純的VOCs氣體離開汽提塔，被回收利用。該工藝適合于VOCs濃度較高、溫度較低的氣體凈化，其他情況下需要作相應的工藝調(diào)整。
UV光解廢氣處理設備
特點：
① 不需要高成本的化學藥劑，運行穩(wěn)定，耐腐蝕，耐負荷沖擊能力大。
② 針對特定有害氣體成份馴化適當?shù)奈⑸铮岣邌挝蝗莘e的負荷率。
③ 填料采用有機無機混合填料，比表面積大，孔隙率高，并可為微生物
提供營養(yǎng)，可支撐大量不同種群微生物群。
④ 填料活性介質(zhì)的損失小、可減少能耗，降低運行費用。
⑤ 采用強化自然生物降解污染物，無二次污染物產(chǎn)生。
⑥ VOC去除率高，對H2S的去除率可達99%。
⑦ PLC控制系統(tǒng)自動運行，無需人員管理。
光催化是常溫深度反應技術(shù)。光催化氧化可在室溫下將水、空氣和土壤中有機污染物*氧化成無毒無害的產(chǎn)物，而傳統(tǒng)的高溫焚燒技術(shù)則需要在*的溫度下才可將污染物摧毀，即使用常規(guī)的催化、氧化方法亦需要高溫。
從理論上講，只要半導體吸收的光能不小于其帶隙能，就足以激發(fā)產(chǎn)生電子和空穴，該半導體就有可能用作光催化劑。常見的單一化合物光催化劑多為金屬氧化物或硫化物，如 Ti0。、Zn0、ZnS、CdS及PbS等。這些催化劑各自對特定反應有突出優(yōu)點，具體研究中可根據(jù)需要選用，如CdS半導體帶隙能較小，跟太陽光譜中的近紫外光段有較好的匹配性能，可以很好地利用自然光能，但它容易發(fā)生光腐蝕，使用壽命有限。
