醫(yī)藥級聚乙二醇PEG研磨均質(zhì)機 無泄漏納米均質(zhì)機，藥物制劑聚乙二醇研磨均質(zhì)機，可加熱的德國均質(zhì)機，醫(yī)藥助劑PEG研磨均質(zhì)機，無泄漏分體式均質(zhì)機
IKN研磨分散機設(shè)計*，能夠延長易損件的使用時間，因此尤其適合高硬度和高純度物料的粉碎?？梢砸粰C多用，也可以單獨使用，且粉碎粒度范圍廣，成品粒徑可以進行調(diào)整。
聚乙二醇和聚乙二醇脂肪酸酯在化妝品工業(yè)和制藥工業(yè)中的應(yīng)用很廣泛。由于聚乙二醇兼有很多優(yōu)良的性質(zhì)： 水溶性、不揮發(fā)性、生理惰性、溫和性、潤滑性和使皮膚潤濕、柔軟、有愉快用后感等。可選取不同相對分子質(zhì)量級分的聚乙二醇改變制品的粘度、吸濕性和組織結(jié)構(gòu)。相對分子質(zhì)量低的聚乙二醇(Mr<2000)適于用作潤濕劑和稠度調(diào)節(jié)劑，用于膏霜、乳液、牙膏和剃須膏等，也適用于不清洗的護發(fā)制品，賦予頭發(fā)有絲狀光澤。相對分子質(zhì)量高的聚乙二醇(Mr>2000)適用于唇膏、除臭棒、香皂、剃須皂、粉底和美容化妝品等。在清洗劑中，聚乙二醇也用作懸浮劑和增稠劑。在制藥工業(yè)上，用作油膏、乳劑、軟膏、洗劑和栓劑的基質(zhì)。市售符合食品和藥物使用的聚乙二醇(如Polyethylene Glycol NF，Dow chemical Co.)更適于化妝品使用。甲氧基聚乙二醇和聚丙二醇的應(yīng)用與聚乙二醇相近。
聚乙二醇廣泛用于多種藥物制劑，如注射劑、局部用制劑、眼用制劑、口服和直腸用制劑。固體級別的聚乙二醇可以加入液體聚乙二醇調(diào)整黏度，用于局部用軟膏；聚乙二醇混合物可用作栓劑基質(zhì)；聚乙二醇的水溶液可作為助懸劑或用于調(diào)整其他混懸介質(zhì)的黏稠度；聚乙二醇和其他乳化劑合用，增加乳劑穩(wěn)定性。此外，聚乙二醇還用作薄膜包衣劑、片劑潤滑劑、控釋材料等。
醫(yī)藥級聚乙二醇PEG研磨均質(zhì)機 無泄漏納米均質(zhì)機機的細化作用一般來說要強于均質(zhì)機，它對物料的適應(yīng)能力較強（如高粘度、大顆粒），所以在很多場合下一步到位的高要求產(chǎn)品生產(chǎn)過程。 此款設(shè)備由電動機通過皮帶傳動帶動轉(zhuǎn)齒（或稱為轉(zhuǎn)子）與相配的定齒（或稱為定子）作相對的高速旋轉(zhuǎn)，被加工物料通過本身的重量或外部壓力（可由泵產(chǎn)生）加壓產(chǎn)生向下的螺旋沖擊力，透過膠體磨定、轉(zhuǎn)齒之間的間隙（間隙可調(diào)）時受到強大的剪切力、摩擦力、高頻振動等物理作用，使物料被有效地乳化、分散和粉碎，達到物料超細粉碎及乳化的效果。
本設(shè)備有以下方面的顯zhu改進和革新：
? 適應(yīng)FDA的指導(dǎo)方針，符合美國3A衛(wèi)生標準和EHEDG標準
? 適合在線清洗和在線殺菌
? 多種形式分散頭可供選擇
? 可擴大規(guī)模生產(chǎn)
? 從低到高的剪切效果
? 采用德國先jin的博格曼機械密封
? 降低噪音 模塊化設(shè)計
? 提供從單級到多級的各類分散頭
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上海IKN技術(shù)，du特創(chuàng)意，融化理念。將IKN高剪切膠體磨進行進一步的改良，在原來CM2000系列的基礎(chǔ)上，將單一的膠體磨磨頭模塊，改良成兩級模塊，加入了一級分散盤（均質(zhì)盤、乳化盤）。從而形成改良型的膠體磨，先研磨后分散（均質(zhì)、乳化），將物料的處理一步到底的完成，我們將這種改良的膠體磨也稱為“研磨分散機”、“研磨均質(zhì)機”、“研磨乳化機”。表面拋光和結(jié)構(gòu)材料，可以滿足不同行業(yè)的多種要求。
設(shè)備等級：化工級、衛(wèi)生I級、衛(wèi)生II級、無菌級
電機形式：普通馬達、變頻調(diào)速馬達、防爆馬達、變頻防爆馬達、氣動馬達
電源選擇： 380V/50HZ、220V/60HZ、440V/50HZ
電機選配件： PTC 熱保護、降噪型
均質(zhì)機材質(zhì)：SUS316L 、SUS316L 、SUS316Ti
均質(zhì)機選配：儲液罐、排污閥、變頻器、電控箱、移動小車
均質(zhì)機表面處理：拋光、耐磨處理
進出口聯(lián)結(jié)形式：法蘭、螺口、夾箍
均質(zhì)機選配容器：本設(shè)備適合于ge種不同大小的容器.
影響分散均質(zhì)結(jié)果的因素有以下幾點
1 均質(zhì)頭的形式（批次式和連續(xù)式）（連續(xù)式比批次好）
2 均質(zhì)頭的剪切速率 （越大，效果越好）
3 均質(zhì)頭的齒形結(jié)構(gòu)（分為初齒，中齒，細齒，超細齒，約細齒效果越好）
4 物料在分散墻體的停留時間，均質(zhì)分散時間（可以看作同等的電機，流量越小，效果越好）
5 循環(huán)次數(shù)（越多，效果越好，到設(shè)備的期限，就不能再好）
線速度的計算
剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對速率。
– 剪切速率 (s-1) = v 速率 (m/s)
g 定-轉(zhuǎn)子 間距 (m)
由上可知，剪切速率取決于以下因素：
– 轉(zhuǎn)子的線速率
– 在這種請況下兩表面間的距離為轉(zhuǎn)子-定子 間距。
IKN 定-轉(zhuǎn)子的間距范圍為 0.2 ~ 0.4 mm
速率V= 3.14 X D（轉(zhuǎn)子直徑）X 轉(zhuǎn)速 RPM / 60
CMSD2000系列研磨分散機設(shè)備選型表
型號 | 流量 L/H | 轉(zhuǎn)速 rpm | 線速度 m/s | 功率 kw | 入/出口連接 DN |
?CMSD2000/4 | 300 | 14000 | 41 | 4 | DN25/DN15 |
CMSD2000/5 | 1000 | 10500 | 41 | 11 | DN40/DN32 |
CMSD2000/10 | 4000 | 7200 | 41 | 22 | DN80/DN65 |
CMSD2000/20 | 10000 | 4900 | 41 | 45 | DN80/DN65 |
CMSD2000/30 | 20000 | 2850 | 41 | 90 | DN150/DN125 |
CMSD2000/50 | 60000 | 1100 | 41 | 160 | DN200/DN150 |
流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性，可以被調(diào)節(jié)到zui大允許量的10%
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