緩蝕劑的作用機(jī)理是在金屬表面形成一層膜，隔離金屬與水的接觸而達(dá)緩蝕目的。按膜的類型分為：沉淀膜型，如聚磷酸鹽（六偏磷酸鈉、三聚磷酸鈉）、正磷酸鹽、有機(jī)膦酸鹽（ATMP 氨基*叉膦酸、EDTMPS 乙二胺四甲叉膦酸、DTPMPA 二乙烯三胺五甲叉膦酸、HEDP 羥基乙叉二膦酸）、膦羧酸（PBTCA  2－膦酸基丁烷－1、2、4羧酸）、膦酸脂（羥乙基膦酸脂）。它們兼有緩蝕、阻垢效果。鋅鹽；硅酸鹽。氧化膜型：如 鉻酸鹽，鉬酸鹽，亞硝酸鹽金屬離子沉淀膜型：如 苯并三氮唑（BTA），并三唑(TTA)它們是銅和銅合金的優(yōu)良緩蝕劑。

    就聚磷酸鹽而言，其緩蝕機(jī)理是電沉積膜。水中的聚磷酸根是帶負(fù)電荷的離子，它與水中的鈣離子生成帶正電的絡(luò)合離子『Na2 Ca2 P6 O6』。依靠金屬腐蝕時(shí)產(chǎn)生的電流作用沉積在金屬表面，隔斷了氧與金屬的接觸從而抑制腐蝕。因此磷系配方要求水中有一定濃度的鈣離子。有機(jī)瞵的作用原理相同。
    鋅鹽是在陰極生成氫氧化鋅沉淀，抑制陰極反應(yīng)而起緩蝕作用，鋅的成膜速度很快，但膜疏松不牢。一般不單獨(dú)使用。而利用其成膜快的特點(diǎn)，和其它緩蝕劑一起用，如磷酸鋅，一沉淀就緊緊粘附在金屬表面，比較牢靠、致密。
   2、常用阻垢分散劑
阻垢分散劑有兩大類。
    *類是含膦酸基團(tuán)如有機(jī)膦酸鹽，常用的有：ATMP、EDTMPS、HEDP、DTPMPA、PEPAMP（大分子膦酸鹽）、羥乙基化磷酸脂、膦羧酸PBTCA（膦酸基丁烷－1，2，4三羧酸）、2－羥基膦基乙酸（HPAA）它們對(duì)碳酸鈣、鋅垢有良好的阻垢能力，還具有一定的緩蝕能力，并與其它聚合物、鋅鹽有很好的協(xié)同作用。特別是后三種對(duì)鈣離子有很高的容忍度，適合在高濃縮倍數(shù)下使用。
    第二類 聚羧酸類水溶性聚合物，主要是丙烯酸的均聚和共聚物，以及馬來酸的均聚和共聚物。常用的有聚丙烯酸（PAA）；丙烯酸－丙烯酸酯共聚物（AA/HPA）；馬來酸－丙烯酸（酯）共聚物（MPMA/AA）；丙烯酸－磺酸共聚物（AA/SA）。特別是含AMPS聚合物（丙烯酰胺－2－甲基丙烷磺酸）的三元共聚物，如AA/AMPS/EMA，性能優(yōu)良全面，對(duì)磷酸鈣，氧化鐵，氫氧化鋅、泥沙等都能分散，穩(wěn)定磷、鋅，拓寬PH效果明顯。這類藥劑對(duì)抑制磷酸鈣沉積特別有效。是復(fù)配中的阻垢分散劑。
阻垢分散劑的作用原理
    阻垢分散劑控制垢沉積的原理較復(fù)雜，這過程并非按化學(xué)當(dāng)量進(jìn)行。幾個(gè)PPm的藥劑可將幾百PPM的Ca＋2穩(wěn)定在水中。而且藥劑濃度達(dá)到一定值時(shí)，阻垢率并不隨藥劑濃度增加而增加。這就是所謂的“閥值效應(yīng)（Threshold）”。目前*的原理是：
A、螯合作用
許多阻垢劑能與水中的鈣、鎂離子形成穩(wěn)定的水溶性的螯合物，將鈣、鎂離子穩(wěn)定在水中等于增加了它們的溶解度。
B、晶格崎變
晶體生長(zhǎng)過程中，是按嚴(yán)格的排列生長(zhǎng)。若在晶體界面上有阻垢分散劑占據(jù)位置，藥劑分子鑲嵌在繼續(xù)生長(zhǎng)的晶體中，使晶體結(jié)構(gòu)不規(guī)則，晶格出現(xiàn)崎形。這種晶體變得疏松，易碎容易被水流擊碎沖走。
C、分散作用
聚合物分子由物理或化學(xué)作用吸附在晶體微粒的表面（可能是垢的晶?；蚱渌鼞腋×Ｗ樱?，改變了顆粒間的作用力，避免它們碰撞長(zhǎng)大，仍呈小顆粒分散在水中。
研究表明，阻垢分散劑對(duì)碳酸鈣垢，是以螯合增溶、晶格崎變?yōu)橹?，?duì)磷酸鈣垢則以分散作用為主。