跟著小型醫(yī)院的蓬勃發(fā)展,其地理位置不只局限于建筑物的 地層,同時也在向?qū)訉懽謽恰⑸虡I(yè)樓和百貨樓內(nèi)發(fā)展。污水處理是否將關(guān)系到診所能否開辦的一項重要依據(jù)。因為醫(yī)院污水中含有很多的病原微生物和有毒物質(zhì),所以國家制定了《醫(yī)院污水排放規(guī)范》,要求診所和醫(yī)院的污水經(jīng)消毒處理后才能排至市政管網(wǎng)。
小型醫(yī)療廢水處理設(shè)備氧化溝又名氧化渠,實際上它是活性污泥法的一種變型。因為廢水和活性污泥的混合液在環(huán)狀的曝氣水溝中不斷循環(huán)流動,有人稱其為“循環(huán)曝氣池”、“無終端的曝氣體系”。
早在1920年,Haworth研制的槳板式曝氣機(jī)應(yīng)用于英國Shefiidd的Tynsley污水處理廠,該處理廠被認(rèn)為是現(xiàn)代氧化溝的驅(qū),但其時尚未出現(xiàn)“氧化溝”一詞。得到*的座氧化溝污水處理廠建于1954年,它是由A.Pasveer博士設(shè)計的,在荷蘭的Voorshopcn市投入使用,效勞人口為360人,從此以后才有了“氧化溝”這一術(shù)語。其運(yùn)轉(zhuǎn)方式為間歇運(yùn)轉(zhuǎn),將曝氣凈化、泥水別離和污泥等過程集于一體。由于Pasveer博士的貢獻(xiàn),這項又被稱為Pasveer溝。小型醫(yī)院廢水處理設(shè)備報價從本質(zhì)上講,氧化溝歸于活性污泥改良法的延時曝氣法范疇。但與通常的延時曝氣法有所不同,氧化溝中污泥的SRT長,盡可能使污泥濃度在溝中堅持些,以MISS運(yùn)轉(zhuǎn)。因而,那些比增殖速度小的微生物便可以生息,特別是硝化細(xì)菌占優(yōu)勢,使氧化溝中的硝化反響能顯著進(jìn)行。另外,長的SRT使剩下污泥量少且已氧,可不需要污泥的消化處理。
氧化溝處理體系的基本特征是曝氣池呈封閉式水溝形,它使用一種帶方向控制的曝氣和攪動裝置,一方面向混合液中充氧,另一方面向反響池中的物質(zhì)傳遞水平速度,使污水和活性污泥的混合液在溝內(nèi)作不斷的循環(huán)流動。從反響器的觀念看,氧化溝歸于一種*特色的連續(xù)環(huán)式反響器(CLR)。
結(jié)構(gòu)特征及作業(yè)原理
(一)整體結(jié)構(gòu)及作業(yè)原理!江西南昌牙科門診口腔醫(yī)院 污水處理設(shè)備 二氧化氯發(fā)生器
整體結(jié)構(gòu):發(fā)生器由供料體系、反應(yīng)體系、操控體系和安體系構(gòu)成:發(fā)生器外殼為PVC資料。
作業(yè)原理:由計量泵將氯酸鈉水溶液與鹽酸溶液輸入到反應(yīng)器中,在必定溫度和負(fù)壓下進(jìn)行充分反應(yīng),產(chǎn)出以二氧化氯為主、cl2為輔的消毒的氣體,經(jīng)水射器吸收與水充分混合后形成消毒液后,通入被消毒水中。
(二)主要部件功能及作業(yè)原理
(1) 水射器:水射器是依據(jù)射流原理而規(guī)劃的一種抽氣元件,當(dāng)動力水經(jīng)過水射器時,其內(nèi)部產(chǎn)生負(fù)壓,外部氣體在壓差效果下被子吸入水射器,然后完成吸氣。被吸入的CLO2氣體在些與混合,形成消毒液,別的,水射器還用于質(zhì)料罐吸收。
(2) 計量泵:運(yùn)送質(zhì)料及調(diào)節(jié)流量。
(3) 反映器曝氣口〔進(jìn)氣口〕:設(shè)備運(yùn)轉(zhuǎn)時的空氣通道,設(shè)備時,可銜接管道并通到室外,并堅持與氣相通。
(4) 電接點壓力表:電接點壓力表是維護(hù)設(shè)備安運(yùn)轉(zhuǎn)的設(shè)備之一,其作業(yè)原理是:當(dāng)水射器端水壓于設(shè)定值時,該表操控計量泵中止進(jìn)料。
(5) 質(zhì)料液位傳感器:質(zhì)料液位傳感器也是維護(hù)設(shè)備安運(yùn)轉(zhuǎn)的設(shè)備之一,它設(shè)備于兩個質(zhì)料罐底部,當(dāng)任何一種質(zhì)料用完時,計量泵將中止進(jìn)料。
(6) 溫度操控器:溫度操控器是體系加熱操控機(jī)構(gòu),它了氯酸鈉和鹽酸的化學(xué)反應(yīng)溫度。
(7) 操控器:操控器是二氧化氯發(fā)生器的操控,它完成了體系的整個自動操控。
設(shè)備條件
1. 電源:AC220V 50HZ
2. 加藥方法為接連或間斷加藥,依據(jù)時節(jié)和水質(zhì)不同,加藥時間、次數(shù)不等。
3. 加藥動力水為工業(yè)水或自來水。
4. 使用的化學(xué)藥品
鹽酸:應(yīng)契合GB320-93《工業(yè)用組成鹽酸》中品規(guī)范,濃度為30%的液體。
氯酸鈉:工業(yè)氯酸鈉純度99%的固體或濃度為30%的液體。
設(shè)備裝置條件
1. 設(shè)備應(yīng)裝置在室內(nèi),工作環(huán)境溫度要15℃以上。
2. 二氧化氯具有強(qiáng)腐蝕性,因此,在設(shè)備裝置時應(yīng)避免與其它設(shè)備置于同一房間。
3. 設(shè)備間應(yīng)鋪設(shè)水泥地面,并有沖洗水源和排水下水道。
4. 應(yīng)在消毒間內(nèi)安狀換氣扇,堅持通風(fēng)杰出。
5. 設(shè)備間應(yīng)有壓力水源,壓力為0.2~0.4MPa。
6. 設(shè)備間應(yīng)有必要的照明設(shè)備及220V,5A-10A單相三孔電源手插座一個。
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