FOUNDRY-MASTER UV臺式真空火花發(fā)射光譜儀采用現(xiàn)代的CCD數(shù)碼技術,實現(xiàn)了分析光譜的全譜直讀。特殊設計的激發(fā)光源,使金屬材料的成份分析進入了一個新的時代。的分析性能、極短的分析時間、極低的運行維護成本、智能化的操作模式,使樣品分析簡單易行??梢詮V泛適用于鐵基、鋁基、銅基、鎳基、鋅基、鈦基、鈷基、鎂基等金屬樣品的成分分析。FOUNDRY-MASTER UV是當今金屬分析的*選擇,同時可以輕松面對未來分析的更高要求,不添加任何硬件設施,即可升級分析功能,方便靈活地隨生產(chǎn)發(fā)展的需要增加分析的元素及基體種類。
主要特點
-*的CCD數(shù)碼技術,分析光譜全譜直讀
-真空光室技術,快速穩(wěn)定
-自動光路校準,不受溫度漂移影響,確保分析的準確性
-自動譜庫尋址,免除繁瑣的波峰掃描工作
-隨時增加分析材料種類及分析元素
-指紋譜圖技術,自動*譜線識別
-開放式電極架,適用于各種形狀和尺寸的樣品分析
-智能化分析模式,快速準確測定各金屬材料中的元素成分
-真空光室技術,快速穩(wěn)定
-自動光路校準,不受溫度漂移影響,確保分析的準確性
-自動譜庫尋址,免除繁瑣的波峰掃描工作
-隨時增加分析材料種類及分析元素
-指紋譜圖技術,自動*譜線識別
-開放式電極架,適用于各種形狀和尺寸的樣品分析
-智能化分析模式,快速準確測定各金屬材料中的元素成分
可以廣泛適用于鐵基、鋁基、銅基、鎳基、鋅基、鈦基、鈷基、鎂基等金屬樣品的成分分析。FOUNDRY-MASTER UV是當今金屬分析的*選擇,同時可以輕松面對未來分析的更高要求,不添加任何硬件設施,即可升級分析功能,方便靈活地隨生產(chǎn)發(fā)展的需要增加分析的元素及基體種類。
技術參數(shù)
1. 光學系統(tǒng):帕邢-龍格結構,焦距350mm,波長范圍160-800nm,光柵刻線數(shù)3000條/mm,高速數(shù)字讀出CCD檢測器,象素分辨率6pm,高穩(wěn)定分光系統(tǒng)。
2. 光源:固態(tài)火花光源,固態(tài)振蕩器。
3. 高能預燃(HEPS)技術:計算機控制光源參數(shù),頻率:100-400HZ,電壓:300-500V。
4. 真空系統(tǒng):低噪音真空泵,外部更換的入射窗口。
5. 氬氣沖洗火花臺:開放式火花臺設計,低氬氣消耗的噴射電極(Jet Stream)不同基體可快速更換激發(fā)臺板。
6. WASLAB軟件功能:校準和分析時的重現(xiàn)性檢查,校準或控樣的自動提示,分析結果超出曲線范圍的標識,自定義輸入樣品的標識碼,自由編輯牌號數(shù)據(jù)庫,牌號校驗功能,牌號標識功能,自動分析*譜線識別,任意次數(shù)的結果平均,標準偏差(SD)及相對標準偏差(RSD),硬件故障自動診斷,光譜指紋譜圖信息,百分濃度,強度,強度率輸出模式等。
2. 光源:固態(tài)火花光源,固態(tài)振蕩器。
3. 高能預燃(HEPS)技術:計算機控制光源參數(shù),頻率:100-400HZ,電壓:300-500V。
4. 真空系統(tǒng):低噪音真空泵,外部更換的入射窗口。
5. 氬氣沖洗火花臺:開放式火花臺設計,低氬氣消耗的噴射電極(Jet Stream)不同基體可快速更換激發(fā)臺板。
6. WASLAB軟件功能:校準和分析時的重現(xiàn)性檢查,校準或控樣的自動提示,分析結果超出曲線范圍的標識,自定義輸入樣品的標識碼,自由編輯牌號數(shù)據(jù)庫,牌號校驗功能,牌號標識功能,自動分析*譜線識別,任意次數(shù)的結果平均,標準偏差(SD)及相對標準偏差(RSD),硬件故障自動診斷,光譜指紋譜圖信息,百分濃度,強度,強度率輸出模式等。