1)光催化氧化除臭設(shè)備技術(shù)原理
光催化氧化除臭設(shè)備利用高能紫外線光束分解空氣中的氧分子產(chǎn)生游離氧,即活性氧,因游離氧所攜正負(fù)電子不平衡所以需與氧分子結(jié)合,進(jìn)而產(chǎn)生臭氧。臭氧的氧化能力和臭氧在紫外光的照射下產(chǎn)生的高活性的離子氧(羥基自由基)將惡臭物質(zhì)轉(zhuǎn)化為無(wú)毒害的二氧化碳、水、硫酸、硝酸等簡(jiǎn)單無(wú)機(jī)物,從而達(dá)到凈化廢氣的目的,該反應(yīng)過(guò)程是高能紫外線輻射和臭氧協(xié)同作用下的一種高級(jí)氧化過(guò)程。
紫外光和臭氧協(xié)同作用較單獨(dú)臭氧氧化效率高很多,紫外光的照射會(huì)加速臭氧的分解,產(chǎn)生的活性自由基·OH的氧化電位(2.8ev)比氧化性*的臭氧的氧化電位(2.07)還高出35%,因此羥基自由基與有機(jī)物的反應(yīng)速度高出幾個(gè)數(shù)量級(jí),而且羥基自由基對(duì)氧化污染物的反應(yīng)是無(wú)選擇性的,可引發(fā)鏈?zhǔn)椒磻?yīng),因此惡臭物質(zhì)不僅能被臭氧直接氧化,而且能被臭氧分解的產(chǎn)物羥基自由基氧化,且后者在紫外光作用下占主導(dǎo)地位。
2)技術(shù)特點(diǎn)
Ø 高效除惡臭:能高效去除揮發(fā)性有機(jī)物(VOC)、無(wú)機(jī)物、硫化氫、氨氣、硫醇類(lèi)等主要污染物,以及各種惡臭味,凈化、脫臭效率zui高可達(dá)99%以上,凈化、脫臭效果大大超過(guò)國(guó)家1993年頒布的惡臭污染物排放標(biāo)準(zhǔn)(GB14554-93).
Ø 無(wú)需添加任何物質(zhì):只需要設(shè)置相應(yīng)的排風(fēng)管道和排風(fēng)動(dòng)力,使工業(yè)廢氣通過(guò)本設(shè)備進(jìn)行分解凈化,無(wú)需添加任何物質(zhì)參與化學(xué)反應(yīng)。,
Ø 適應(yīng)性強(qiáng):可適應(yīng)高濃度,大氣量,不同工業(yè)廢氣物質(zhì)的凈化處理,可每天24小時(shí)連續(xù)工作,運(yùn)行穩(wěn)定可靠。
Ø 運(yùn)行成本低:本設(shè)備無(wú)任何機(jī)械動(dòng)作,無(wú)噪音,無(wú)需專(zhuān)人管理和日常維護(hù),只需作定期檢查,本設(shè)備能耗低,(每處理1000立方米/小時(shí),僅耗電約0.2度電能),設(shè)備風(fēng)阻極低<50pa,可節(jié)約大量排風(fēng)動(dòng)力能耗。
Ø 無(wú)需預(yù)處理:工業(yè)廢氣無(wú)需進(jìn)行特殊的預(yù)處理,如加溫、加濕等,設(shè)備工作環(huán)境溫度在攝氏-30℃-95℃之間,濕度在30%-98%、PH值在4-10之間均可正常工作。
Ø 設(shè)備占地面積小,自重輕:適合于布置緊湊、場(chǎng)地狹小等特殊條件,設(shè)備占地面積<1平方米/處理10000m3/h風(fēng)量。
Ø 優(yōu)質(zhì)進(jìn)口材料制造:防火、防腐蝕性能高,性能穩(wěn)定,使用壽命長(zhǎng)。