TFMS-LD反射光譜薄膜測(cè)厚儀是一款利用反射光譜測(cè)試薄膜厚度的儀器,可快速精確地測(cè)量透明或半透明薄膜的厚度而不損傷樣品表面的薄膜,是一款無損測(cè)厚儀,其測(cè)量膜厚范圍為15nm-50um,測(cè)量膜厚范圍廣,尤其適用于超薄薄膜厚度的測(cè)量。儀器所發(fā)出測(cè)試光的波長范圍為400nm-1100nm,波長范圍廣,因此,測(cè)試薄膜厚度的范圍廣。反射光譜薄膜測(cè)厚儀測(cè)試系統(tǒng)的理論基礎(chǔ)為鏡面光纖反射探頭,該儀器尺寸小巧可節(jié)省實(shí)驗(yàn)室空間,操作方便,讀數(shù)直觀,方便于在實(shí)驗(yàn)室中擺放和使用。
產(chǎn)品名稱 | TFMS-LD反射光譜薄膜測(cè)厚儀 |
產(chǎn)品型號(hào) | TFMS-LD |
測(cè)量膜厚范圍 | 15nm-50um |
光譜波長 | 400 nm - 1100 nm |
特點(diǎn)
測(cè)量和數(shù)據(jù)分析同時(shí)進(jìn)行,可測(cè)量單層膜,多層膜,無基底和非均勻膜
包含了500多種材料的光學(xué)常數(shù),新材料參數(shù)也可很容易地添加,支持多重算法:Cauchy, Tauc-Lorentz, Cody-Lorentz, EMA等
體積較小,方便擺放和操作
可測(cè)量薄膜厚度,材料光學(xué)常數(shù)和表面粗糙度
使用電腦操作,界面中點(diǎn)擊,即可進(jìn)行測(cè)量和分析
沈陽科晶自動(dòng)化設(shè)備有限公司是由畢業(yè)于美國麻省理工學(xué)院的江曉平博士于2000年5月創(chuàng)建。與合肥科晶材料技術(shù)有限公司、深圳市科晶智達(dá)科技有限公司同屬于科晶聯(lián)盟。自*SYJ-150低速金剛石切割機(jī)誕生以來,沈陽科晶便開始了以趕超國外同行、材料分析設(shè)備潮流為目標(biāo)的發(fā)展歷程。時(shí)至今日,已經(jīng)擁有涵蓋材料切割、研磨、拋光、涂膜、鍍膜、混合、壓軋、燒結(jié)、分析等領(lǐng)域以及相關(guān)耗材的上百種產(chǎn)品,可以滿足晶體、陶瓷、玻璃、巖相、礦樣、金屬材料、耐火材料、復(fù)合材料、生物材料等制備分析的全套需要。