鍍層厚度測(cè)試檢測(cè)材料表面的金屬和氧化物覆層的厚度測(cè)試。檢測(cè)方法有 1. 金相法 2. 庫(kù)侖法 3. X-ray 方法。

鍍層厚度測(cè)試標(biāo)準(zhǔn)

鍍層厚度檢測(cè)（金相法）

GB/T 6462-2005          金屬和氧化物覆蓋層 厚度測(cè)量顯微鏡法

ASTM B487-07             用橫斷面顯微觀察法測(cè)定金屬及氧化層厚度的標(biāo)準(zhǔn)試驗(yàn)方法

ISO 1463-2003            金屬和氧化物覆蓋層.覆蓋層厚度的測(cè)定.顯微鏡法

EN ISO 1643-2004     金屬和氧化物覆蓋層.覆蓋層厚度的測(cè)定.顯微鏡法

JIS H8501-1999          鍍層厚度試驗(yàn)方法

AS 2331.1.1-2001       鍍層厚度試驗(yàn)方法

鍍層厚度檢測(cè)（XRF)

GB/T 16921-2005              金屬覆蓋層覆蓋層厚度測(cè)量X射線光譜法

ISO 3497-2000                  金屬鍍層.鍍層厚度的測(cè)量.X射線光譜測(cè)定法

DIN EN ISO 3497-2001   金屬鍍層.鍍層厚度的測(cè)量.X射線光譜測(cè)定法

ASTM B568-09                   用X射線光度法測(cè)量鍍層厚度的標(biāo)準(zhǔn)試驗(yàn)方法

ASTM A754-08                   X射線熒光涂層厚度的試驗(yàn)方法

JIS H8501-1999                金屬覆層厚度試驗(yàn)方法

鍍層厚度檢測(cè)（電鏡掃描法）

ASTM B748-90(2010)       通過(guò)用掃描電子顯微鏡測(cè)量橫截面來(lái)測(cè)量金屬涂層厚度的試驗(yàn)方法

鍍層厚度試驗(yàn)方法

金相法：

        利用金相顯微鏡原理，對(duì)鍍層厚度進(jìn)行放大，以便準(zhǔn)確的觀測(cè)及測(cè)量。采用金相顯微鏡檢測(cè)橫斷面，以測(cè)量金屬覆蓋層、氧化膜層的局部厚度的方法。一般厚度檢測(cè)需要大于1um，才能保證測(cè)量結(jié)果在誤差范圍之內(nèi)；厚度越大，誤差越小。

庫(kù)侖法：

        用適當(dāng)?shù)碾娊庖宏?yáng)極溶解精確限定面積的覆蓋層，電解池電壓的急劇變化表明覆蓋層實(shí)質(zhì)上*溶解，經(jīng)過(guò)所耗的電量計(jì)算出覆蓋層的厚度。因陽(yáng)極溶解的方法不同，被測(cè)量覆蓋層的厚度所耗的電量也不同。用恒定電流密度溶解時(shí)，可由試驗(yàn)開(kāi)始到試驗(yàn)終止的時(shí)間計(jì)算；用非恒定電流密度溶解時(shí)，由累積所耗電量計(jì)算，累積所耗電量由電量計(jì)累計(jì)顯示。適合測(cè)量單層和多層金屬覆蓋層厚度陽(yáng)極溶解庫(kù)侖法，包括測(cè)量多層體系，如Cu/Ni/Cr以及合金覆蓋層和合金化擴(kuò)散層的厚度。不僅可以測(cè)量平面試樣的覆蓋層厚度，還可以測(cè)量圓柱形和線材的覆蓋層厚度，尤其適合測(cè)量多層鎳鍍層的金屬及其電位差。測(cè)量鍍層的種類(lèi)為Au、Ag、Zn、Cu、Ni、dNi、Cr。

X-ray 方法：

      X射線光譜方法測(cè)定覆蓋層厚度是基于一束強(qiáng)烈而狹窄的多色X射線與基體和覆蓋層的相互作用。此相互作用產(chǎn)生離散波長(zhǎng)和能量的二次輻射，這些二次輻射具有構(gòu)成覆蓋層和基體元素特征。覆蓋層單位面積質(zhì)量（若密度已知，則為覆蓋層線性厚度）和二次輻射強(qiáng)度之間存在一定的關(guān)系。該關(guān)系首先由已知單位面積質(zhì)量的覆蓋層校正標(biāo)準(zhǔn)塊校正確定。若覆蓋層材料的密度已知，同時(shí)又給出實(shí)際的密度，則這樣的標(biāo)準(zhǔn)塊就能給出覆蓋層線性厚度。適用于測(cè)定電鍍及電子線路板等行業(yè)需要分析的金屬覆蓋層厚度。 包括：金（Au），銀（Ag），錫（Sn），銅（Cu），鎳（Ni），鉻（Cr）等金屬元素厚度。

GB/T 6462-2005

GB/T 6462-2005 影響測(cè)量鍍層厚度不確定度的因素

1 表面粗糙度

如果覆蓋層或覆蓋層基體表面是粗糙的，那么與覆蓋層橫斷面接觸的一條或兩條界面線是不規(guī)則的，以致不能精確測(cè)量。

2 橫斷面的斜度

如果橫斷面不垂直于待測(cè)覆蓋層平面，那么測(cè)量的厚度將大于真實(shí)厚度。例如:垂直度偏差 100,將產(chǎn)生 1,5% 的誤差。

3 菠蓋層變形

鑲嵌試樣和制備橫斷面的過(guò)程中，過(guò)高的溫度和壓力將使軟的或低熔點(diǎn)的覆蓋層產(chǎn)生有害變形;在制備脆性材料橫斷面時(shí)，過(guò)度的打磨也同樣會(huì)產(chǎn)生變形。

4 覆蓋層邊緣倒角

如果覆蓋層橫斷面邊緣倒角，即覆蓋層橫斷面與邊緣不*平整，采用顯微鏡測(cè)量則得不到真實(shí)厚度。不正確的鑲嵌、研磨、拋光和浸蝕都會(huì)引起邊緣倒角，因此在鑲嵌之前，待測(cè)試樣常要附加鍍層，這樣可使邊緣倒角減至小。

5 附加鍍層

在制備橫斷面時(shí)，為了保護(hù)覆蓋層的邊緣，以避免測(cè)量誤差，常在待測(cè)試樣上附加鍍層。在附加鍍層前的表面準(zhǔn)備過(guò)程中，覆蓋層材質(zhì)的除去將導(dǎo)致厚度測(cè)量值偏低。

6 浸蝕

適當(dāng)?shù)慕g能在兩種金屬的界面線上產(chǎn)生細(xì)而清晰的黑線;過(guò)度的浸蝕會(huì)使界面線不清晰或線條變寬，使測(cè)量產(chǎn)生誤差。

7 遮蓋

不適當(dāng)?shù)膾伖饣蚋郊渝兏曹浗饘贂?huì)使一種金屬遮蓋在另一種金屬上，造成覆蓋層和基體之間的界面線模糊。為了減輕遮蓋的影響，可反復(fù)制備金屬鍍層的橫斷面，直至厚度測(cè)量出現(xiàn)重現(xiàn)，或附加鍍覆較硬的金屬。

8 放大率

對(duì)于待測(cè)的任何一個(gè)覆蓋層厚度，測(cè)量誤差一般隨放大率減小而增大。選擇放大率時(shí)應(yīng)使顯微鏡視野為覆蓋層厚度的 1.5 倍一3 倍。

9 載物合測(cè)微計(jì)的校正

載物臺(tái)測(cè)微計(jì)校正時(shí)的誤差將反映到試樣的測(cè)量中。標(biāo)尺必須經(jīng)過(guò)嚴(yán)密的校正或驗(yàn)證，否則會(huì)產(chǎn)生百分之幾的誤差。常用的校準(zhǔn)方法是:以滿標(biāo)尺的長(zhǎng)度為準(zhǔn)確值，然后使用線性測(cè)微計(jì)測(cè)量每格長(zhǎng)度，根據(jù)比例算出每格刻度值。

10 測(cè)微計(jì)目鏡的校正

線性測(cè)微計(jì)目鏡可提供的測(cè)厚方法。目鏡經(jīng)校準(zhǔn)，測(cè)量將更為準(zhǔn)確。因校準(zhǔn)與操作者的人為因素有關(guān)，因而目鏡應(yīng)由測(cè)量操作者進(jìn)行校準(zhǔn)。重復(fù)校正測(cè)微計(jì)目鏡可希望得到小于1% 的誤差。校正載物臺(tái)測(cè)微計(jì)的兩條線的間距應(yīng)在0.2μm或0.1% 中較大一個(gè)的范圍內(nèi) 若載物臺(tái)測(cè)微計(jì)未作精度驗(yàn)證，則應(yīng)校正。

11 對(duì)位

測(cè)微計(jì)目鏡移動(dòng)時(shí)的齒間游移也能引起測(cè)量誤差。為消除這種誤差，應(yīng)保證對(duì)位過(guò)程中準(zhǔn)線后移動(dòng)始終朝同一方向。

12 放大率的一致性

放大率在整個(gè)視野內(nèi)不一致就會(huì)出現(xiàn)誤差，因此，要保證將待測(cè)界面置于光軸中心，并且在視野的同一位置進(jìn)行校準(zhǔn)和測(cè)量