維修美國(guó)MicroLine高精密光學(xué)影像測(cè)量?jī)x
MicroLine-300是一款桌上型半自動(dòng)CD測(cè)量系統(tǒng)。
主要技術(shù)參數(shù):
◆ 測(cè)量范圍(XYZ):標(biāo)準(zhǔn):200×200×25mm;可選:300x300x25
◆ 視場(chǎng)內(nèi)測(cè)量精度:10nm(100X 鏡頭);Z軸聚焦范圍:25 mm
◆ 視場(chǎng)內(nèi)測(cè)量范圍:0.5um~400um;
◆ 視場(chǎng)內(nèi)測(cè)量重復(fù)性(100x 物鏡): 晶圓上<0.010um(1δ);
掩模板上0.005um(1δ);
◆ 承重:2kg
◆ 標(biāo)配鏡頭10x,可選鏡頭:5X, 20X, 50X, 100X
維修美國(guó)MicroLine高精密光學(xué)影像測(cè)量?jī)x
MicroLine 300 is a table type semi-automatic CD measurement system .
The main technical parameters :
◆ X,Y,Z Measuring Range (mm): standard :200x200x25 optional : 300X300x25
◆ The field measurement accuracy :10nm (100X lens ) Z Foucsing Range (mm) : 25
◆ The field measurement range :0.5um~400um;
◆ The field measurement repeatability (100X lens):on wafer < 0 0.010m(1δ);
on mask plate 0.005um(1δ);
◆ Max Recommanded Load : 2kg
◆ Lens : standard :10X
optional :5X,20X,50X,100X。
維修美國(guó)MicroLine高精密光學(xué)影像測(cè)量?jī)x
MicroLine 系列 主要用于測(cè)量半導(dǎo)體、MEMS 晶圓、光刻掩模板等尺寸和涂覆物(多層套刻、圓、對(duì)接誤差等)量測(cè)。
MicroLine 臨界尺寸測(cè)量系統(tǒng)設(shè)計(jì)應(yīng)用于半導(dǎo)體和MEMS晶圓以及光掩模CD量測(cè)。Microline 系列可自動(dòng)測(cè)量線寬,迭置重合,和其他關(guān)鍵尺寸。
MicroLine 裝備有高性能光學(xué)顯微鏡,高精度運(yùn)動(dòng)平臺(tái),可測(cè)量0.5 微米到400 微米大小的產(chǎn)品,測(cè)量精度和重復(fù)性在10nm (1 σ ,100倍物鏡)。
維修美國(guó)MicroLine高精密光學(xué)影像測(cè)量?jī)x
MicroLine 系列 主要用于測(cè)量半導(dǎo)體、MEMS 晶圓、光刻掩模板等尺寸和涂覆物(多層套刻、圓、對(duì)接誤差等)量測(cè)。
MicroLine 臨界尺寸測(cè)量系統(tǒng)設(shè)計(jì)應(yīng)用于半導(dǎo)體和MEMS晶圓以及光掩模CD量測(cè)。Microline 系列可自動(dòng)測(cè)量線寬,迭置重合,和其他關(guān)鍵尺寸。
MicroLine 裝備有高性能光學(xué)顯微鏡,高精度運(yùn)動(dòng)平臺(tái),可測(cè)量0.5 微米到400 微米大小的產(chǎn)品,測(cè)量精度和重復(fù)性在10nm (1 σ ,100倍物鏡)。