電子束納米曝光系統(tǒng) DY-2000A系統(tǒng)組成：電子光學系統(tǒng)（掃描電子顯微鏡）、圖形發(fā)生器、精密工件臺、控制系統(tǒng)、真空系統(tǒng)、精密電源。

電子束納米曝光系統(tǒng) DY-2000A主要應用：

1：半導體器件研究：微波晶體管，單電子晶體管，量子點，超導環(huán)等

2：光電子器件研究：特種光柵，菲涅爾波帶板，晶體檢波器，光波導，光集成器件

3：微機械研究：微納機電系統(tǒng)，微通道，微傳感器，3D微結構

4：消費電子研究：全息光學元件，新一代DVD光，光學傳感器，磁頭，聲表面波器件

5：其他研究：非生產掩膜板制作，圖形位置標定和CD測量
    納米圖形發(fā)生器DY-2000是電子束納米曝光系統(tǒng)DY-2000的核心部件，由*電工研究所自主研發(fā)、生產。吸納了近年來數(shù)字信號處理的全新成果,利用高性能數(shù)字信 號處理器(DSP)將要曝光的單元圖形拆分成線條和點,然后通過優(yōu)化設計的數(shù)模轉換電路,將數(shù)字量轉化成高精度的模擬量,驅動掃描電鏡的偏轉器,實現(xiàn)電子束的掃描。 

為此目的特構建了x方向和y方向兩組數(shù)模轉換電路,每組包括1個16位主數(shù)模和3個16位乘法數(shù)模。通過圖形發(fā)生器可以對標準樣片進行圖像采集,進行掃描場的線性畸變校正,包括掃描場增益、旋轉和位移校正。另外,圖形發(fā)生器還可以控制束閘的通斷。配合精密定位工件臺和激光干涉儀,可以實現(xiàn)曝光場的拼接。通過檢測芯片的標記,還可以實現(xiàn)曝光圖形的套刻，利用配套軟件既可以新建曝光圖形,也可以導入通用格式文件,例如CIF和GDSII文件,進行曝光參數(shù)設置、圖形修正、圖形分割、鄰近效應修正等工作，然后將曝光圖形數(shù)據(jù)轉換成圖形發(fā)生器可以識別的EDF文件,完成曝光圖形的準備工作。