產(chǎn)品簡(jiǎn)介:高真空單室熱蒸發(fā)系統(tǒng)用于納米級(jí)單層及多層功能膜、硬質(zhì)膜、金屬膜、 半導(dǎo)體膜、介質(zhì)膜等新型薄膜材料的制備。廣泛應(yīng)用 于大專院校、科研院所的薄膜材料科研與小批量制備。
產(chǎn)品型號(hào) | 高真空單室熱蒸發(fā)系統(tǒng) |
主要特點(diǎn) | 系統(tǒng)主要由真空室系統(tǒng)蒸發(fā)室、蒸發(fā)源系統(tǒng)、樣品臺(tái)系統(tǒng)、 真空抽氣及測(cè)量系統(tǒng)、氣路系統(tǒng)、控制系統(tǒng)、膜厚測(cè)試 系統(tǒng)、上蓋液壓開啟機(jī)構(gòu)、電控系統(tǒng)組成。 |
技術(shù)參數(shù) | 1、極限真空度5×10-5Pa,系統(tǒng)漏率:1×10-7PaL/S; 恢復(fù)真空時(shí)間:40分鐘可達(dá)6.6×10 Pa(短時(shí)間暴露 大氣并充干燥氮?dú)夂箝_始抽氣) |
標(biāo)準(zhǔn)配件 |
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可選配件 |
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