產(chǎn)品簡(jiǎn)介：VTC-600-2HD雙靶磁控濺射儀是我公司自主新研制開發(fā)的一款高真空鍍膜設(shè)備，可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜、半導(dǎo)體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學(xué)薄膜、氧化物薄膜、硬質(zhì)薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。VTC-600-2HD雙靶磁控濺射儀配備有兩個(gè)靶槍，一個(gè)弱磁靶用于非導(dǎo)電材料的濺射鍍膜，一個(gè)強(qiáng)磁靶用于鐵磁性材料的濺射鍍膜。與同類設(shè)備相比，且具有體積小便于操作的優(yōu)點(diǎn)，且可使用的材料范圍廣，是一款實(shí)驗(yàn)室制備各類材料薄膜的理想設(shè)備。
產(chǎn)品型號(hào) | VTC-600-2HD雙靶磁控濺射儀 | ||
產(chǎn)品型號(hào) | VTC-600-2HD | ||
安裝條件 | 本設(shè)備要求在海拔1000m以下，溫度25℃±15℃，濕度55%Rh±10%Rh下使用。 1、水：設(shè)備配有自循環(huán)冷卻水機(jī)（加注純凈水或者去離子水） 2、電：AC220V 50Hz，必須有良好接地 3、氣：設(shè)備腔室內(nèi)需充注氬氣（純度99.99%以上），需自備氬氣氣瓶（自帶Ø6mm雙卡套接頭）及減壓閥 4、工作臺(tái)：尺寸1500mm×600mm×700mm，承重200kg以上 5、通風(fēng)裝置：需要 | ||
主要特點(diǎn) | 1、配置兩個(gè)靶槍，一個(gè)配套射頻電源用于非導(dǎo)電靶材的濺射鍍膜，一個(gè)配套直流電源用于導(dǎo)電性材料的濺射鍍膜。 2、可制備多種薄膜，應(yīng)用廣泛。 3、體積小，操作簡(jiǎn)便。 | ||
技術(shù)參數(shù) | 1、電源電壓：220V 50Hz 2、功率：<2KW（不含真空泵） 3、極限真空度：9.0×10-4Pa 4、樣品臺(tái)加熱溫度：RT-500℃，精度±1℃（可根據(jù)實(shí)際需要提升溫度） 5、靶槍數(shù)量：2個(gè)（可選配其他數(shù)量） 6、靶槍冷卻方式：水冷 7、靶材尺寸：Ø2″，厚度0.1-5mm（因靶材材質(zhì)不同厚度有所不同） 8、直流濺射功率：500W；射頻濺射功率：300W。（靶電源種類可選，可選擇兩個(gè)直流電源，也可選擇兩個(gè)射頻電源，或選則一個(gè)直流一個(gè)射頻電源） 9、載樣臺(tái)：Ø140mm，可根據(jù)客戶需求選配加裝偏壓功能，以實(shí)現(xiàn)更高質(zhì)量的鍍膜。 10、載樣臺(tái)轉(zhuǎn)速：1rpm-20rpm內(nèi)可調(diào) 11、工作氣體：Ar等惰性氣體 12、進(jìn)氣氣路：質(zhì)量流量計(jì)控制2路進(jìn)氣，一路為100SCCM，另一路為200SCCM。 | ||
產(chǎn)品規(guī)格 | 1、主機(jī)尺寸：500mm×560mm×660mm 2、整機(jī)尺寸：1300mm×660mm×1200mm 3、真空室規(guī)格：φ300×300mm 4、重量：160kg | ||
標(biāo)準(zhǔn)配件 | 1 | 直流電源控制系統(tǒng) | 1套 |
2 | 射頻電源控制系統(tǒng) | 1套 | |
3 | 膜厚監(jiān)測(cè)儀系統(tǒng) | 1套 | |
4 | 分子泵（德國(guó)進(jìn)口） | 1臺(tái) | |
5 | 冷水機(jī) | 1臺(tái) | |
6 | 冷卻水管（Ø6mm） | 4根 | |
可選配件 | 金、銦、銀、白金等各種靶材 | ||
