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狹縫式薄膜涂布機(jī)

參考價10000.00
具體成交價以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 公司名稱邁可諾技術(shù)有限公司
  • 品       牌其他品牌
  • 型       號CS18
  • 所  在  地上海市
  • 廠商性質(zhì)代理商
  • 更新時間2021/6/7 16:03:32
  • 訪問次數(shù)865
產(chǎn)品標(biāo)簽:

狹縫涂布機(jī)鈣鈦礦涂布機(jī)

規(guī)格
10000.00元10 套可售
在線詢價收藏產(chǎn)品 點擊查看電話

 邁可諾公司全稱“邁可諾技術(shù)有限公司”,英文簡稱“MYCRO”。這是一家富有創(chuàng)新精神的化高科技公司,專業(yè)提供光電半導(dǎo)體化工實驗室所需設(shè)備耗材的全套解決方案提供商,公司網(wǎng)址為 ?! ∽鳛楣I(yè)實驗室市場領(lǐng)域的,邁可諾從事開發(fā)、設(shè)計、生產(chǎn)并營銷質(zhì)量可靠的、安全易用的技術(shù)產(chǎn)品及優(yōu)質(zhì)專業(yè)的服務(wù),幫助客戶和合作伙伴取得成功?! ∵~可諾成功的基礎(chǔ)是幫助客戶做出更好的選擇和決定,尊重他們的決定,并協(xié)助他們實現(xiàn)高效率的科研成果,追求豐富有意義的生活。

主營產(chǎn)品:勻膠機(jī),旋涂儀,甩膠臺,勻膠臺,涂層機(jī),涂膠機(jī),涂膜機(jī),旋轉(zhuǎn)涂敷儀, HPC,PPC, PAC,SCE系列等離子清洗機(jī), Cargille光學(xué)試劑,光刻機(jī)/曝光機(jī),壓力機(jī), 壓片機(jī), 熱壓機(jī),WABASH熱壓機(jī), CARVER熱壓機(jī),LAURELL勻膠機(jī)、HOT PLATE熱板 烤膠機(jī)
Laurell勻膠機(jī)
 Harrick等離子清洗機(jī)
 Carver手動壓片機(jī)
 Uvitron紫外固化箱
 Novascan紫外臭氧清洗機(jī)
 Wenesco/EMS/Unitemp加熱板
 Kinematic程序剪切儀
Laurell EDC系統(tǒng),濕站系統(tǒng)
 NXQ光刻機(jī)
 Anatech等離子系統(tǒng)
 Wabash/Carver自動壓片機(jī)

光學(xué)試劑,勻膠機(jī),等離子清洗機(jī),熱板,光刻機(jī),壓片機(jī)
加工定制 應(yīng)用領(lǐng)域 家用電器
基片尺寸 120*120mm
狹縫式薄膜涂布機(jī)(狹縫擠出式涂布機(jī)/鈣鈦礦太陽能電池涂布機(jī))適用于有機(jī)太陽能電池OPV和鈣鈦礦太陽能電池PVK等基材的涂布,非連續(xù)基材如LCD玻璃基板光阻涂布,也應(yīng)用于光學(xué)膜(增亮膜、hardcoat、偏光膜、擴(kuò)散膜等)、OLED涂布等狹縫式薄膜涂布機(jī)。
狹縫式薄膜涂布機(jī) 產(chǎn)品信息

產(chǎn)品簡介

狹縫式薄膜涂布機(jī)涂布系統(tǒng)主要包括供料單元和涂布單元,涂布單元是通過利用精密機(jī)械加工所制作的上下模及安裝在上下模間的薄墊片所組成,供料單元由儲料、輸送的*及過濾裝置等組成。系統(tǒng)由涂布模具相對于基片作精確運動,通過控制速率、精密計量和泵送工藝流體,將液體化學(xué)材料從上下模之間的縫隙擠出涂布于移動的基板(玻璃、不銹鋼和塑料等)上形成薄膜。涂膜厚度可由液體流量與基板移動速度直接計算,其優(yōu)點為涂膜均勻性高、可適用的涂料粘度范圍廣、涂布速度快、以及可制作大面積的涂膜。
狹縫式薄膜涂布機(jī)適用于有機(jī)太陽能電池OPV和鈣鈦礦太陽能電池PVK等基材的涂布,非連續(xù)基材如LCD玻璃基板光阻涂布,也應(yīng)用于光學(xué)膜(增亮膜、hardcoat、偏光膜、擴(kuò)散膜等)、OLED涂布等。
狹縫式薄膜涂布機(jī)多種規(guī)格尺寸可選可定制,多種人性化配置可選:加熱臺、特殊氣體吹淋系統(tǒng)、多尺寸刀頭,多規(guī)格墊片等,滿足客戶多種需求,為客戶量身定制高精密專業(yè)設(shè)備。
 

性能特點

設(shè)備整體采用兩級調(diào)整確保大面積平臺水平度,涂布平臺有單獨的調(diào)平機(jī)構(gòu),平臺是否平整作為工藝門檻的一步相當(dāng)于地基。
涂布刀頭采用專用合金,特殊表面熱處理的進(jìn)口大尺寸刀頭(自有設(shè)計技術(shù)),防有機(jī)溶劑,防形變。
Z軸采用伺服電機(jī)配合編碼器加光柵尺雙閉環(huán),確保刀頭的位置精度,和刀頭的水平度。
集成化*,可聯(lián)動控制溶液流速,自動進(jìn)液,自動除氣,自動管路清洗(需要配備清洗液,刀頭需拆卸清洗)。
涂布平臺運行機(jī)構(gòu)采用直線伺服電機(jī)提高平臺穩(wěn)定性,將工藝中影響的因素減到很小。
廢液回收系統(tǒng),可配合管路清洗進(jìn)行廢液回收,方便廢液處理。
涂布平臺帶有多區(qū)域真空吸附功能,基底定位功能,方便基底定位以及涂布過程的固定。
多段式涂布工藝,更好的保證基底首尾膜厚的控制。
整臺設(shè)備可置放在手套箱中使用。
 
 

技術(shù)參數(shù):

基底:玻璃,多孔質(zhì)基材,金箔,硅片

基底厚度:2-10mm

基材長寬:MAX 120x120mm(有更大尺寸可咨詢)

涂層厚度(濕厚):2-1000um

固含量:10-50%

粘度:1-2000cps

涂布方式:狹縫擠出式涂布

涂布寬度:外寬MAX 120 mm(實際工作100mm)

涂布平臺速度:1-30mm/s

平臺平整度:±1.5um

電源:220V x 50Hz

出膠速度:1-500uL/s

應(yīng)用領(lǐng)域

-   有機(jī)光伏太陽能電池OPV;
-   鈣鈦礦太陽能電池PerovskitePV;
-   平板顯示(FPD),OLED;
-   石墨烯,碳納米管;
-   超級電容;
-   及其他光伏應(yīng)用;
 

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