本款產(chǎn)品專為有高溫微流變表征的用戶設計,溫度上限可達180℃。有研究人員利用傳統(tǒng)技術測試高溫流變時需要利用時-溫疊加的方法間接推算,而本產(chǎn)品允許用戶利用基于動態(tài)光散射原理的擴散波譜技術直接在不高于180℃的條件下直接測試樣品的微流變性能。
儀器相關配置參數(shù)如下:
※ 背散射和前散射兩種模式,提供完整的DWS解決方案,通過電子快門系統(tǒng)實現(xiàn)兩種模式轉(zhuǎn)換;
※ 軟件功能強大,用以數(shù)據(jù)采集和分析,結(jié)合單多斑測量,用戶可自定義多腳本運行,進行在線微流變分析,可以得到粘彈模量、均方位移、平均光子自由程、蠕變?nèi)崃?、損耗角正切和平均粒徑;
※ 自動測量得到平均光子自由程l*和吸收長度la。
※ 半導體激光光源,685nm,40mW,噪音小于0.5%,單模TEM00,相干長度>1m,預熱時間15分鐘,激光路徑處于密閉空間,安全等級為1級(根據(jù)EN 60825-1/11.01標準);
※ 兩個高檢測效率的單光子計數(shù)檢測器,量子效率>65% @ 685nm,標準死時間20ns;
※ 雙通道快速多tau/線性相關器,最小采樣時間12.5ns;
※ 測試溫度范圍(4℃ - 180℃),在實驗室溫度不高于23℃時溫控精度+/-0.02℃,露點以下測量時需接干燥空氣吹掃,RheoLab提供接口;
※ 儲存模量G'和損耗模量G"測量范圍1Hz-10MHz,彈性范圍:1Pa-50kPa;
※ 可測試1mPas以上的低粘度樣品;
※ 樣品池支架光程范圍1-10mm,可使用標準的光學池,使用1mm樣品池時樣品需求量降至150μL;
※ 儀器無需光學平臺,操作保養(yǎng)更加簡捷。
產(chǎn)品功能:
DWS RheoLab HT高溫型擴散波譜儀采用了背散射和前散射技術,能夠在高溫條件下分析軟物質(zhì)的微流變以及超濃懸浮液的平均粒徑。
包括背散射和前向散射完整的DWS方法,采用雙池回波技術(EP 1720000 A1)的,用于非遍歷性樣品表征;利用回波技術,幾分鐘內(nèi)得到儲存模量G'和損耗模量G",頻率上限可達10M Hz ;適用于>1%的樣品濃度(和粒徑有關),透明樣品需加入示蹤粒子;可以測量穩(wěn)定性,老化性以及凝膠點等。
使用背散射技術測量平均粒徑,測量范圍:50nm-1μm;適用于顆粒濃度20%以下的牛頓流體體系,能獲得多分散性樣品的平均粒徑。
相關耗材:
1mm、2mm、5mm、10mm四種規(guī)格的樣品瓶;PS示蹤粒子;二氧化硅示蹤粒子。(需訂貨)