1． 光學系統(tǒng)

1.1  總體描述

1.1.1  雙光束系統(tǒng)，具有背景校正和火焰發(fā)射功能

*1.1.2  非對稱調(diào)制技術(shù)使樣品光束和參比光束的通過時間比為2:1，用于降低噪聲

1.1.3  帶有石英涂層的全反射鏡面系統(tǒng)

1.1.4  全封閉光學系統(tǒng)，防塵、防蒸汽

 

1.2  單色器

1.2.1  總體設(shè)計：Ebert-Fastie設(shè)計，焦距333 mm

*1.2.2  波長范圍175-900 nm

*1.2.3  光柵：1800線/mm刻線密度，雙閃耀波長，1.6倒數(shù)色散系數(shù)

1.2.4  波長選擇：自動波長選擇和自動尋峰

1.2.5  狹縫調(diào)節(jié)

*1.2.5.1  連續(xù)調(diào)節(jié)，波譜帶寬范圍0.1-2 nm，調(diào)節(jié)步長0.1 nm

*1.2.5.2  對石墨爐操作，減小的狹縫高度適用于所有的狹縫寬度

1.2.5.3  自動設(shè)定狹縫寬度和高度

1.2.6  波長掃描：具有自動掃描功能

 

 1.3 檢測器：寬范圍光電倍增管

 

2． 元素燈

2.1  空心陰極燈

*2.1.1  8燈座，帶有自動選燈功能

2.1.2  在兩個平面上自動化，以提高光通量

2.1.3  自動多元素操作，帶有下一只燈自動預(yù)熱功能

2.1.4  可用標準空心陰極燈

 

 2.2 超燈：可選配。

 

 3． 背景校正

*3.1  采用超脈沖背景校正技術(shù)，以每秒200次(50 Hz)或240次(60 Hz) 的讀數(shù)頻率，對背景峰進行校正

*3.2  脈沖之間和插入測量之間只有約1 ms的時間間隔，這樣就可以保證的可能測量精度

3.3  高精度氘燈提供175-425 nm的校正范圍，可以校正到2.5 Abs

 

4． 火焰控制

4.1  總體描述

4.1.1  從存儲的方法條件中自動設(shè)定火焰類型和氣體流量

4.1.2  可編程的點火和關(guān)火順序

4.1.3  自動多元素操作時，自動改變火焰狀態(tài)

4.1.4  可編程設(shè)定分析完成后自動關(guān)火

4.2  安全連鎖裝置

4.2.1  空氣、乙炔和N2O氣體的壓力，燃燒頭是否存在，燃燒頭類型，液封水平，霧化器及泄壓拴是否存在，氧化氣流量，火焰狀態(tài)和主電源

4.2.2  任何失常出現(xiàn)，都將導致不能點火或關(guān)掉火焰

4.2.3  屏幕顯示安全連鎖的狀態(tài)

 

5． 火焰原子化系統(tǒng)

5.1  燃燒頭

5.1.1  全鈦燃燒頭設(shè)計

5.1.2  燃燒頭長度：10 cm

*5.1.3  燃燒頭位置可通過軟件自動調(diào)節(jié)

*5.1.4  可選配燃燒頭旋轉(zhuǎn)功能

 

 5.2  霧化器

5.2.1  帶有惰性固態(tài)聚合物混合室的預(yù)混和設(shè)計

5.2.2  霧化器采用Pt-Ir合金毛細管和惰性的文丘里管，以提高抗酸沖擊的能力

5.2.3  用鎖定機構(gòu)實現(xiàn)可調(diào)節(jié)的樣品提升速率

5.2.4  惰性撞擊球

5.2.5 帶有安全互鎖裝置的霧化器拴和泄壓拴

5.2.6 帶有液面水平互鎖功能的集成式液封

 

5.3  石墨爐快速拆裝

*5.3.1  具有石墨爐快速拆裝功能，以切換火焰分析和石墨爐分析

 

6． 保證性能指標

*6.1  靈敏度與精度：使用5 mg/L的Cu溶液，在相同的測量中，同時得到>0.8 abs的靈敏度和RSD<0.45%的精度

*6.2  典型檢出限：Cu的檢出限0.001 ppm

 

7． 石墨爐系統(tǒng)

7.1  背景扣除方式：氘燈扣背景

*7.2  石墨管加熱方式：縱向加熱

7.3  石墨爐組件

7.3.1  石墨管和平臺，安裝在帶有石英窗的密閉空間內(nèi)，通過一條帶有氣路、冷卻水管和電線的塞繩連接到供電電源

7.3.2  具有2路惰性保護氣

7.3.3  溫度范圍：室溫~3000℃

7.3.4  電腦控制的升溫速率：2000℃/s

*7.3.5  無步數(shù)限制的溫度編程，每一步包含升溫和保溫、氣體選擇和讀數(shù)選項

*7.3.6  溫度控制器監(jiān)控電流和電壓，在全溫度范圍內(nèi)、在升溫和保溫階段，使用能量反饋提供精確的控制

7.3.7  對惰性氣體壓力和冷卻水壓力，具有安全互鎖裝置

7.3.8  修正冷卻水的溫度變化

7.3.9  惰性氣體：Ar或N2，壓力70-200 kPa(10-30 psi)

7.3.10冷卻水：流量1-2 L/mim，壓力100-200 kPa(15-30 psi)

 

7.4  自動進樣器

*7.4.1  可容納40個樣品和10個預(yù)混和的標準樣品(或1個用于多達10個標樣的自動混合溶劑)

7.4.2  樣品容積：2 ml(標樣和樣品用)、5 ml(自動混合標樣用)、10 ml(空白溶液和化學改進劑用)

7.4.3  進樣量：1-100 μl，以1 μl的增量編程設(shè)定

7.4.4  全PTFE材質(zhì)的毛細管

7.4.5  1升清洗液罐

7.4.6  根據(jù)存儲的坐標值，由電腦控制探頭的位置設(shè)定

7.4.7  程序選項包括：標準自動混合，標準添加自動混合，化學調(diào)節(jié)劑自動注射，多樣品注射，自動再標定和*再校準，校驗樣品和添加回收

 

8． 氫化物發(fā)生器

8.1  總體描述

8.1.1  連續(xù)流動式氫化物和冷蒸汽發(fā)生系統(tǒng)，用于ppb水平的As, Sb, Se, Te, Bi, Ge, Sn & Pb的分析

8.1.2  可同時用于冷蒸汽法分析ppb水平的Hg

*8.1.3  由原子吸收供應(yīng)商原廠生產(chǎn)，并通過原子吸收操作軟件進行控制

 

8.2 分析性能

*8.2.1  樣品產(chǎn)率: 60個/小時

*8.2.2  在ppb水平，精度RSD<1%

 

9． 軟件

9.1  總體描述

9.1.1  基于Windows 7的軟件平臺

9.1.2  可以選擇英文或中文版本

9.1.3  可以控制同一品牌的所有儀器和所有附件

 

9.2  數(shù)據(jù)處理系統(tǒng)

9.2.1  提供原子吸收或發(fā)射的分析結(jié)果

9.2.2  吸收的范圍到3.0Abs

9.2.3  測量方式：積分、測量平均值、峰高或峰面積

*9.2.4  多達50次重復(fù)讀數(shù)的平均值和RSD

9.2.5  多達10種標樣的校正曲線

9.2.6  線形最小平方法曲線校正

9.2.7  線形最小平方法曲線過零校正

9.2.8  精確擬合曲線校正

9.2.9  多項式曲線校正

9.2.10 標準加入或內(nèi)標

9.2.11可以根據(jù)做樣的累計時間或做樣的累計個數(shù)，來編程控制什么時候進行單一標樣再計算斜率或做完整的再校準

9.2.12 密碼保護的分析結(jié)果，允許移除不需要的標樣或樣品的讀數(shù)

9.2.13 重量或稀釋劑校正

9.2.14 所有的編輯都可以分析過程中及事后進行

 

9.3  圖形顯示

9.3.1  高分辨彩色顯示：原子吸收信號、背景信號、石墨爐溫度程序、校正曲線、峰值測量和波長掃描

9.3.2  多種圖形顯示模式，包括重疊非連續(xù)峰

9.3.3  可選的跟蹤吸收標尺

9.3.4  圖形光標可用于從圖形跟蹤中獲取數(shù)字化信息

9.3.5  窗口放大功能可以擴展顯示圖形軌跡

 

9.4  數(shù)字存儲

9.4.1  所有的數(shù)據(jù)都可以存儲，包括把圖形軌跡和分析結(jié)果鏈接起來

9.4.2  還可以存儲的有：分析方法、樣品標簽、樣品順序、方法順序、重量和稀釋劑、分析報告頁眉和頁腳、校準和分析結(jié)果

 

9.5  報告生成

9.5.1  報告可以從所有存儲分析結(jié)果中打印，不管是單元素的分析結(jié)果還是合并了不同的測試及使用不同的技術(shù)得到的多元素的分析結(jié)果列表

9.5.2  所有的運行參數(shù)、校準圖形、頁眉頁腳、方法說明、樣品標簽、結(jié)果統(tǒng)計和重量及稀釋因子都可以打印出來

9.5.3  軟件支持多種打印機的類型

 

9.6  質(zhì)量控制協(xié)議

9.6.1  所有質(zhì)量控制功能都可用，包括校驗樣品、添加回收、質(zhì)量控制上下限、校準修正