高壓氣體基因槍 顆粒轟擊基因槍
型號(hào)：GH/GJ-1000
北京高壓氣體基因槍產(chǎn)品介紹：
基因槍技術(shù)（顆粒轟擊）是一種全新的基因?qū)爰夹g(shù)，它把遺傳物質(zhì)或其他物質(zhì)附著于高速微彈直接射入細(xì)胞內(nèi)的物理方法，是目前上較*的基因?qū)爰夹g(shù)。氣體基因槍可在廣泛的細(xì)胞類型中得到瞬間的穩(wěn)定和高效率的表達(dá)、轉(zhuǎn)化。氣體基因槍有一個(gè)產(chǎn)生氣體沖擊波的特殊結(jié)構(gòu)，推進(jìn)載體膜的氦氣壓力由所使用的不同破裂膜決定，在恰當(dāng)?shù)臍鈮悍秶鷥?nèi)具有相應(yīng)不同的可破裂膜，將包覆DNA的粒子穿越，射入在轟擊室底部的靶細(xì)胞中。基因槍適用于動(dòng)植物、細(xì)胞培養(yǎng)物、胚胎、細(xì)菌及小型動(dòng)物的轉(zhuǎn)基因。具有快速、簡(jiǎn)便、安全、高效的特點(diǎn)。
北京高壓氣體基因槍主要技術(shù)參數(shù)及應(yīng)用：
實(shí)驗(yàn)條件：體外、來自體內(nèi)、植物（體內(nèi)）
目標(biāo)區(qū)域：（大）40厘米
壓力范圍：3-12Mpa
目標(biāo)類型：動(dòng)物：細(xì)胞和器官培養(yǎng)
植物：較小的整體植株、培養(yǎng)細(xì)胞、外植體、酵母、細(xì)菌、其他微生物細(xì)胞器、葉綠體、線料體
電壓：220V/110V
氣源：氦氣或氮?dú)猓ê飧鼉?yōu)化）
金屬顆粒：ф0.8-1.5чm ，ф1.5-3.0чm（常用ф0.8чm）
產(chǎn)品介紹：
基因槍技術(shù)（顆粒轟擊）是一種全新的基因?qū)爰夹g(shù)，它把遺傳物質(zhì)或其他物質(zhì)附著于高速微彈直接射入細(xì)胞內(nèi)的物理方法，是目前上較*的基因?qū)爰夹g(shù)。氣體基因槍可在廣泛的細(xì)胞類型中得到瞬間的穩(wěn)定和高效率的表達(dá)、轉(zhuǎn)化。氣體基因槍有一個(gè)產(chǎn)生氣體沖擊波的特殊結(jié)構(gòu)，推進(jìn)載體膜的氦氣壓力由所使用的不同破裂膜決定，在恰當(dāng)?shù)臍鈮悍秶鷥?nèi)具有相應(yīng)不同的可破裂膜，將包覆DNA的粒子穿越，射入在轟擊室底部的靶細(xì)胞中?；驑屵m用于動(dòng)植物、細(xì)胞培養(yǎng)物、胚胎、細(xì)菌及小型動(dòng)物的轉(zhuǎn)基因。具有快速、簡(jiǎn)便、安全、高效的特點(diǎn)。
主要技術(shù)參數(shù)及應(yīng)用：
實(shí)驗(yàn)條件：體外、來自體內(nèi)、植物（體內(nèi)）
目標(biāo)區(qū)域：（大）40厘米
壓力范圍：3-12Mpa
目標(biāo)類型：動(dòng)物：細(xì)胞和器官培養(yǎng)
植物：較小的整體植株、培養(yǎng)細(xì)胞、外植體、酵母、細(xì)菌、其他微生物細(xì)胞器、葉綠體、線料體
電壓：220V/110V
氣源：氦氣或氮?dú)猓ê飧鼉?yōu)化）
金屬顆粒：ф0.8-1.5чm ，ф1.5-3.0чm（常用ф0.8чm）
產(chǎn)品介紹：
基因槍技術(shù)（顆粒轟擊）是一種全新的基因?qū)爰夹g(shù)，它把遺傳物質(zhì)或其他物質(zhì)附著于高速微彈直接射入細(xì)胞內(nèi)的物理方法，是目前上較*的基因?qū)爰夹g(shù)。氣體基因槍可在廣泛的細(xì)胞類型中得到瞬間的穩(wěn)定和高效率的表達(dá)、轉(zhuǎn)化。氣體基因槍有一個(gè)產(chǎn)生氣體沖擊波的特殊結(jié)構(gòu)，推進(jìn)載體膜的氦氣壓力由所使用的不同破裂膜決定，在恰當(dāng)?shù)臍鈮悍秶鷥?nèi)具有相應(yīng)不同的可破裂膜，將包覆DNA的粒子穿越，射入在轟擊室底部的靶細(xì)胞中。基因槍適用于動(dòng)植物、細(xì)胞培養(yǎng)物、胚胎、細(xì)菌及小型動(dòng)物的轉(zhuǎn)基因。具有快速、簡(jiǎn)便、安全、高效的特點(diǎn)。
主要技術(shù)參數(shù)及應(yīng)用：
實(shí)驗(yàn)條件：體外、來自體內(nèi)、植物（體內(nèi)）
目標(biāo)區(qū)域：（大）40厘米
壓力范圍：3-12Mpa
目標(biāo)類型：動(dòng)物：細(xì)胞和器官培養(yǎng)
植物：較小的整體植株、培養(yǎng)細(xì)胞、外植體、酵母、細(xì)菌、其他微生物細(xì)胞器、葉綠體、線料體
電壓：220V/110V
氣源：氦氣或氮?dú)猓ê飧鼉?yōu)化）
金屬顆粒：ф0.8-1.5чm ，ф1.5-3.0чm（常用ф0.8чm）
