采用磁控型電極,限度地減輕對樣品的損壞。
特點(diǎn):
? 采用LCD觸摸屏,可以更加簡便地設(shè)定加工條件
? 可處理較厚或較大的樣品(選配件)
? 記憶功能可存儲(chǔ)常用加工條件
規(guī)格:
項(xiàng)目 | 說明 | |
---|---|---|
放電 | 類型 | 磁控二極管放電型(電場垂直于磁場) |
電極組成 | 反向平行盤(嵌入磁鐵) | |
電壓 | 0.4 kV DC(直流可變) | |
電流 | 40 mA DC | |
噴鍍速率 *1() [條件] 壓力:7 Pa 放電電流:40 mA 標(biāo)靶與樣品表面之間的距離:20 mm | Pt 靶(選配件) | 15 nm/min |
Pt-Pd 靶(選配件) | 20 nm/min | |
Au 靶(選配件) | 35 nm/min | |
Au-Pd 靶(選配件) | 25 nm/min | |
樣品尺寸 | 直徑 | φ60 mm |
高度 | 20 mm | |
機(jī)械泵 | 135/162 l/min (50/60Hz) | |
靶材*2 | Pt , Pt-Pd (8:2) , Au , Au-Pd (6:4) | |
電源要求 | 單相, 100 V AC (±10%) 15 A (50/60 Hz), 3-針插頭線纜(3 m) | |
尺寸 | 寬度 | 450 mm |
長度 | 391 mm | |
高度 | 390 mm | |
重量 | 主機(jī):約 25 kg 機(jī)械泵:約 28 kg |
- *1
- : 噴鍍速率僅供參考
- *2
- : 主機(jī)內(nèi)不包括靶材。請從選項(xiàng)中選擇(鉑,鉑-鈀,金,金-鈀)。