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GGX-830火焰石墨爐一體化原子吸收分光光度計(jì) 原子吸收光譜儀

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  • 公司名稱北京海光儀器有限公司
  • 品       牌
  • 型       號(hào)
  • 所  在  地
  • 廠商性質(zhì)經(jīng)銷商
  • 更新時(shí)間2023/3/1 9:07:11
  • 訪問(wèn)次數(shù)471
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北京海光儀器有限公司成立于1988 年,隸屬于世界500 強(qiáng)-- *有限公司所屬中國(guó)地質(zhì)裝備集團(tuán)有限公司,是國(guó)有獨(dú)資、*、現(xiàn)代化*企業(yè),公司總部及研發(fā)中心位于北京市順義區(qū)泰達(dá)科技園區(qū),在河北省三河市燕郊興遠(yuǎn)高科產(chǎn)業(yè)園擁有6000 平方米制造基地。

北京海光儀器有限公司注冊(cè)資本5000 萬(wàn)元,主要從事分析儀器的研發(fā)、制造、銷售和售后服務(wù), 是中國(guó)的光譜分析儀器制造廠商,連續(xù)十一年被媒體評(píng)為“具影響力國(guó)內(nèi)儀器廠商”稱號(hào),公司通過(guò)了質(zhì)量管理體系、環(huán)境管理體系、職業(yè)健康安全體系三大體系認(rèn)證,公司以原子熒光光度計(jì)、原子吸收分光光度計(jì)、測(cè)汞儀、流動(dòng)分析儀、快速溶劑萃取儀和等離子體發(fā)射光譜儀等分析儀器為主要產(chǎn)品,廣泛應(yīng)用于食品藥品、環(huán)境監(jiān)測(cè)、農(nóng)業(yè)、質(zhì)監(jiān)、自來(lái)水、檢驗(yàn)檢疫、地質(zhì)、第三方檢測(cè)、科研等領(lǐng)域,產(chǎn)品獲得國(guó)家科技進(jìn)步三等獎(jiǎng)、六次BCEIA 金獎(jiǎng)、自主創(chuàng)新金獎(jiǎng)、國(guó)產(chǎn)好儀器等多種獎(jiǎng)項(xiàng)。

原子熒光光譜儀(AFS) 原子吸收光譜(AAS) 測(cè)汞儀 微波消解儀 電熱消解儀、消化爐 水質(zhì)分析儀/多參數(shù)水質(zhì)分析儀 氨氮測(cè)定儀/氨氮分析儀 氰化物測(cè)定儀 揮發(fā)酚測(cè)定儀 流動(dòng)分析儀/流動(dòng)注射分析儀(FIA SFA CFA) 快速溶劑萃取設(shè)備/快速溶劑萃取儀
性能特點(diǎn):1、火焰石墨爐一體化設(shè)計(jì),內(nèi)置石墨爐電源,輔助氣設(shè)計(jì),減少了樣品引入對(duì)火焰狀態(tài)和原子化溫度的影響,更適合于有機(jī)樣品和小提升量樣品的精確分析
GGX-830火焰石墨爐一體化原子吸收分光光度計(jì) 原子吸收光譜儀 產(chǎn)品信息
性能特點(diǎn):
1、火焰石墨爐一體化設(shè)計(jì),內(nèi)置石墨爐電源,輔助氣設(shè)計(jì),減少了樣品引入對(duì)火焰狀態(tài)和原子化溫 度的影響,更適合于有機(jī)樣品和小提升量樣品的精確分析。 2、石墨爐功率采用電流電壓向量控制,保證石墨爐升溫的高重現(xiàn)性。 3、優(yōu)化的EMC包括EMI(電磁干擾)及EMS(電磁耐受性)電路設(shè)計(jì),保證了儀器電路可靠穩(wěn)定工作。 4、Czerny-turner型光路設(shè)計(jì),光程短,能量強(qiáng)。采用1800條刻線/mm平面衍射光柵,分辨率高。 5、升溫速率快:≥2000℃/s,具有多項(xiàng)安全檢測(cè)措施:石墨爐爐體溫度檢測(cè)、 冷卻水壓力檢測(cè)、惰性氣 體壓力檢測(cè)、石墨管斷裂或未夾緊檢測(cè)。 6、石墨爐/火焰切換采用可調(diào)節(jié)氣動(dòng)裝置,使得原子吸收工作方式一鍵完成。 7、立式8元素?zé)粼O(shè)設(shè)計(jì),避免了平行燈設(shè)計(jì)而造成的燈位漂移現(xiàn)象。 8、浮動(dòng)光學(xué)平臺(tái)保證了儀器機(jī)械高穩(wěn)定性,同時(shí)大大減輕了儀器重量。 9、精心設(shè)計(jì)的石墨爐自動(dòng)進(jìn)樣器,保證石墨爐進(jìn)樣針高精度定位(0.1%)的進(jìn)樣精度。 10、儀器狹縫、波長(zhǎng)、點(diǎn)火等控制一鍵完成。 11、具有完善的安全聯(lián)鎖保護(hù)裝置和防回火裝置,在斷電、斷氣等意外情況下,儀器自動(dòng)切斷燃?xì)狻?br>技術(shù)指標(biāo):
 
 波長(zhǎng)范圍 190-900nm
 波長(zhǎng)準(zhǔn)確度 ±0.2nm
 基線漂移 <0.003A/30min
 分辨率 <0.2nm
 特征濃度 Cu<0.02μg/mL/1%
 背景校正能力 >30倍
 檢出限 Cu<0.005μg/mL
 測(cè)量精度(RSD) <0.8%(Cu)
 波長(zhǎng)重復(fù)性 <0.1nm
關(guān)鍵詞:光學(xué)平臺(tái)
15168338725
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