產(chǎn)品介紹
半導(dǎo)體、集成電路芯片及封裝、液晶顯示、高精度線(xiàn)路板、光電器件、各種電子器件、微電子工業(yè)、大規(guī)模、超大規(guī)模集成電路需用大量的純水、高純水、超純水清洗半成品、成品。集成電路的集成度越高,線(xiàn)寬越窄,對(duì)水質(zhì)的要求也越高。目前我國(guó)電子工業(yè)部把電子級(jí)水質(zhì)技術(shù)分為五個(gè)行業(yè)等級(jí),分別為18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm,以區(qū)分不同水質(zhì)。
工藝簡(jiǎn)介
電子、半導(dǎo)體、液晶顯示、光伏工業(yè)生產(chǎn)在制作過(guò)程中,往往需要使用極其純凈的超純水。如果純水水質(zhì)達(dá)不到生產(chǎn)工藝用水的要求或者水質(zhì)不穩(wěn)定的話(huà),會(huì)影響到后續(xù)工藝的處理效果和使用壽命。在光伏行業(yè)電子管生產(chǎn)中,如其中混入雜質(zhì),就會(huì)影響電子的發(fā)射,進(jìn)而影響電子管的放大性能及壽命,在顯像管和陰極射線(xiàn)管生產(chǎn)中,其熒光屏內(nèi)壁用噴涂法或沉淀法附著一層熒光物質(zhì),如其配制純水中含銅在8ppb以上,就會(huì)引起發(fā)光變色;含鐵在50ppb以上就會(huì)使發(fā)光變色、變暗、閃動(dòng)并會(huì)造成氣泡、條跡、漏光點(diǎn)等廢次品。
工藝流程
產(chǎn)品特點(diǎn)
電子工業(yè)超純水設(shè)備通常由多介質(zhì)過(guò)濾器,活性碳過(guò)濾器,鈉離子軟化器、精密過(guò)濾器等構(gòu)成預(yù)處理系統(tǒng)、RO反滲透主機(jī)系統(tǒng)、離子交換混床(EDI電除鹽系統(tǒng))系統(tǒng)等構(gòu)成主要設(shè)備系統(tǒng)。原水箱、中間水箱、RO純水水箱、超純水水箱均設(shè)有液位控制系統(tǒng)、高低壓水泵均設(shè)有高低壓壓力保護(hù)裝置、在線(xiàn)水質(zhì)檢測(cè)控制儀表、電氣采用PLC可編程控制器,真正做到了無(wú)人值守,同時(shí)在工藝選材上采用推薦和客戶(hù)要求相統(tǒng)一的方法,使該設(shè)備與其它同類(lèi)產(chǎn)品相比較,具有更高的性?xún)r(jià)比和設(shè)備可靠性。
主要應(yīng)用
1、大規(guī)模集成電路元器件的生產(chǎn)用水,一般電阻率均大于18MO-CM。按國(guó)家有關(guān)用水標(biāo)準(zhǔn)(GB/T11446.1-1997)執(zhí)行。
2、電子元件廠,在焊接和組裝過(guò)程中的沖洗用水。依據(jù)電子元件生產(chǎn)工藝不同,其用水標(biāo)準(zhǔn)中(即GB/T11446.1-1997)有可為四級(jí)(一級(jí)電導(dǎo)率18MO-CM以上,二級(jí)電阻率不低于15MO-CM,3級(jí)電阻率12MO-CM, 4級(jí)為0.5MO-CM)。
技術(shù)特征
1、制取電子級(jí)超純水;
2、可連續(xù)自動(dòng)生產(chǎn),不必停機(jī)再生;
3、出水水質(zhì)優(yōu)于常規(guī)離子交換法;
4、不需酸堿再生,不污染環(huán)境;
5、運(yùn)行成本低,占地面積小;
應(yīng)用范圍
1、半導(dǎo)體材料、器件、印刷電路板和集成電路成品、半成品用超純水;
2、超純材料和超純化學(xué)試劑勾兌用超純水;
3、實(shí)驗(yàn)室和中試車(chē)間用超純水;
4、汽車(chē)、家電表面拋光處理;
5、光電子產(chǎn)品;
6、其他高科技精微產(chǎn)品。
進(jìn)水標(biāo)準(zhǔn)
通常為單級(jí)反滲透或二級(jí)反滲透的滲透水。 | TEA(總可交換陰離子,以CaCO3計(jì)):<25ppm。 |
電導(dǎo)率:<40μS/cm。 | 溫度: 5~35℃。 |
有機(jī)物( TOC):<0.5ppm。 | 氧化劑:Cl2<0.05ppm,O3<0.02ppm。 |
變價(jià)金屬: Fe<0.01ppm,Mn<0.02ppm。 | H2S:<0.01ppm。 |
二氧化硅:<0.5ppm。 | 色度:<5APHA。 |
二氧化碳的總量:<10ppm | SDI 15min:<1.0。 |
進(jìn)水壓力:<4bar(60psi)。 | 硬度:(以CaCO3計(jì)):<1.0ppm。 |
PH:6.0~9.0。當(dāng)總硬度低于0.1ppm時(shí),EDI工作的pH范圍為8.0~9.0。 |
出水標(biāo)準(zhǔn)
中國(guó)電子行業(yè)超純水 國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)GB/T1146.1-1997
實(shí)驗(yàn)室用水國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)GB6682-92
美國(guó)半導(dǎo)體工業(yè) 用純水 指標(biāo)
美國(guó)試驗(yàn)級(jí)用水標(biāo)準(zhǔn)(ASTM/NCCLS)