氧氮?dú)浞治鰞x技術(shù)特點(diǎn)
1,分析速度快,自動(dòng)化操作。
2,高靈敏度紅外和熱導(dǎo)池檢測(cè)器用于氧氫的檢測(cè)
3,非接觸式紅外溫控系統(tǒng),實(shí)時(shí)監(jiān)控石墨坩堝內(nèi)樣品的溫度,具有獨(dú)立的溫控模式,確保分析結(jié)果的穩(wěn)定性以及利于新樣品的方法開(kāi)發(fā)。
4,大容量粉塵過(guò)濾器,有效延長(zhǎng)維護(hù)間隔時(shí)間
5,整體加工的高溫耐受爐頭和一體化設(shè)計(jì)的水冷系統(tǒng),適合于Ti等難熔金屬分析;
6,基于Windows系統(tǒng)的操作軟件,界面友好,功能強(qiáng)大,該軟件系統(tǒng)兼容布魯克旗下的所有設(shè)備,可以方便實(shí)現(xiàn)信息的傳輸和共享。
氧氮?dú)浞治鰞x優(yōu)點(diǎn):
智能分子測(cè)試技術(shù)TM (as applied in the G8 GALILEO?
直接以測(cè)CO的方式測(cè)氧
? 無(wú)需轉(zhuǎn)化為CO2 檢測(cè) (無(wú)需額外的轉(zhuǎn)化試劑)
? 無(wú)CO2 和 H2O譜圖干擾
? 無(wú)需隱藏的方法校正
每種分子以其釋放的形式檢測(cè)- 無(wú)需轉(zhuǎn)化,每種元素采用適合的檢測(cè)技術(shù)。
? Oxygen T CO (NDIR)
? Nitrogen T N2 (TCD)
? Hydrogen T H2 (TCD)
熔融控制技術(shù) (see m.p. diagram)
? 精確溫度控制T 避免副產(chǎn)物的產(chǎn)生
? 通過(guò)FUSION.ELEMENTS控制
? 通過(guò)非接觸式光學(xué)溫度監(jiān)控系統(tǒng)控制
SampleCareTM 實(shí)現(xiàn)可靠性和經(jīng)濟(jì)的分析手段
? 直接反饋式電子驅(qū)動(dòng)下電極模塊
? 無(wú)需動(dòng)力氣體
? 通過(guò)扭矩控制方式實(shí)現(xiàn)理想的電極接觸
? 屏蔽式樣品口
? 一體化冷卻爐頭避免坩堝脫氣過(guò)程樣品的受熱(H 損失)
? 旋轉(zhuǎn)式進(jìn)樣口適口于各類樣品,沒(méi)有卡樣風(fēng)險(xiǎn),細(xì)顆粒樣品無(wú)需錫囊或鎳囊
? 大容量粉塵過(guò)濾器
? 延長(zhǎng)維護(hù)周期
? 高效粉塵過(guò)濾效果
高精度檢測(cè)器技術(shù)
G6對(duì)于氧/氮的檢測(cè)分別采用高靈敏度紅外和熱導(dǎo)檢測(cè)器,檢測(cè)帶有獨(dú)立恒溫單元。紅外檢測(cè)器采用電子頻率切光,確保了更好的光源穩(wěn)定性。熱導(dǎo)檢測(cè)器采用雙通道設(shè)計(jì),參比通道可以更大程度地避免環(huán)境對(duì)于信號(hào)的干擾。對(duì)于這兩個(gè)檢測(cè)器,布魯克承諾提供3年的保修期。
技術(shù)參數(shù)
測(cè)量范圍
O:0.1ppm-3%
H:0.1ppm-3000ppm
分析時(shí)間:
氧氮:大約180s
分析精度:
分析精度:± 0.05 ppm 或 ± 1 %相對(duì),優(yōu)于固體標(biāo)樣證書(shū)所標(biāo)稱的精度值。
靈敏度:0.001ppm
電源供應(yīng):
分析儀:400V,7KVA
外圍設(shè)備:230V,800VA
載氣:
N2純度99.999%
壓力2bar
壓縮空氣:干,5bar
冷卻水:大約4l/min
儀器尺寸:700 x 830x 600 mm (W x D x H)