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雙靶高真空磁控濺射儀 | VTC-600-2HD是一款帶有兩個靶頭的磁控濺射鍍膜儀,其中一個靶頭采用直流(DC)濺射,可濺射金屬靶材制備金屬膜,另一個采用射頻(RF)濺射,可濺射金屬和氧化物靶材,制備金屬或氧化物膜.設(shè)備上安裝有薄膜測厚儀可以實時監(jiān)測薄膜的厚度。此設(shè)備可制作各種單層或多層薄膜,如鐵電、導電,合金,半導體,陶瓷,介電,光學,氧化物和PTFE薄膜等。而且設(shè)備體積較小操作方便,是一套理想的實驗工具。 | ||
主 要 特 點 | •體積小,操作簡便 | |||
基 本 參 數(shù) | ●輸入電源:220V AC 50/60Hz | 真空腔體: ●真空腔體:φ300 mm x 300 mm H,采用不銹鋼制作 氣體流量控制器: ●儀器內(nèi)部安裝有2個質(zhì)量流量計,量程為:0-100sccm 真空系統(tǒng): ●配有一套GZK-103D分子泵系統(tǒng)(德國制作) 薄膜測厚儀(可選): ●一個精密的石英振動薄膜測厚儀安裝在儀器上,可實時監(jiān)測薄膜的厚度,分辨率為0.10 ? 產(chǎn)品尺寸:L 1300mm× W 660mm× H 1200mm 凈重:160 kg | ||
磁控濺射頭: ●儀器中安裝有2個2英寸磁控濺射頭,而且都帶有水冷夾層
載樣臺: ●載樣臺尺寸:φ140mm(可放置4"的基底) | ||||