產(chǎn)品介紹

自清洗原理:
S200 Cl2 余氯分析儀電化學全自動清洗原理:在專用余氯電極測量部位的高純度黃金環(huán)(測量電極)與不銹鋼反電極之間加載高頻脈沖電壓對附著在黃金電極表面的水分子進行電解，產(chǎn)生瞬間活性氧氣和氫氣；
其中瞬間活性氧氣會氧化電極表面附著的有機物；瞬間活性氫氣會阻止泥垢、銹斑、鈣質(zhì)在該部位的生成并同時擊碎有機附著物；
同時，電解生成的氣體（包括氫氣和氧氣）因比重遠小于水的原因，會在迅速脫離電極表面過程中如吹掃般剝離包裹在電極表面的附著物；
自清洗過程中產(chǎn)生的氣流非常小。

應用領域:
自來水廠消毒工藝及加氯控制，管網(wǎng)及二次供水水質(zhì)安全監(jiān)測
市政污水、工業(yè)用水及醫(yī)療廢水的加氯消毒工藝
石化、電力、鋼鐵、船舶等工業(yè)循環(huán)水、過程用水、回用水的加氯系統(tǒng)優(yōu)化及自動控制
食品、飲料、乳品及制藥等生產(chǎn)過程制水的消毒工藝控制

產(chǎn)品細節(jié)

產(chǎn)品參數(shù)

測量范圍：余氯 0—5.00 mg/L;有效氯 0—5.00 mg/L
pH值 -2.00—+16.00 pH;溫度 -30.,00— +140.00°C
技術特性：精度:±2%FS;
響應時間: t90＜60s; 溫度顯示: -30.0-140.0℃
溫度補償：Pt 100 或Pt 1000手動溫度補償
尺寸：700×400mm
負載電阻：500歐姆
電磁兼容性：符合標準DIN EN 50081-1和 50081-2
認證：CE認證

產(chǎn)品特性

*的自清洗余氯測量分析技術，不使用任何化學試劑、無機械刮頭且真正零維護、可自動清除電極表面的泥垢、膠體、鈣質(zhì)、銹跡、油脂等各類常見附著物
*、對待測水無任何二次污染、長期穩(wěn)定可靠、無憂運轉
高測量精度、高靈敏度、響應時間極短
水質(zhì)監(jiān)控系統(tǒng)能補償影響余氯測量準確性的所有因素
無磨損的余氯電極 (飲用水)
系統(tǒng)的長期穩(wěn)定性確保記錄可能的電極漂移現(xiàn)象