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環(huán)保APP正式上線

全自動On-Line式AP等離子處理系統(tǒng) CRF-APS- 500W

參考價面議
具體成交價以合同協(xié)議為準
  • 公司名稱深圳市誠峰智造有限公司
  • 品       牌
  • 型       號CRF-APS- 5
  • 所  在  地
  • 廠商性質生產(chǎn)廠家
  • 更新時間2022/8/15 15:04:37
  • 訪問次數(shù)180
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深圳市誠峰智造有限公司(phone:13632675935  http://www.sfi-crf.com)是一家專業(yè)致力于提供等離子設備及工藝流程解決方案的*。中國香港、中國臺灣、深圳、蘇州、天津、成都、昆山、珠海設立八大銷售及客戶中心,銷售及客戶網(wǎng)絡遍布,擁有國內外銷售及客服團隊。源于美國&德國30年plasma生產(chǎn)制造及研發(fā)技術,公司全資擁有CRF品牌下等離子設備的研發(fā),生產(chǎn),制造技術,設備范圍涵蓋半導體,光伏光電,太陽能,PCB&FPCB等行業(yè)。

等離子清洗機,等離子表面處理機,電漿機,plasma設備,等離子設備
產(chǎn)品特點●自動式等離子處理系統(tǒng)大氣等離子清洗機應用于FPCPCB表面處理,復合型材料,玻璃,ITO等行業(yè)領域的表面處理
全自動On-Line式AP等離子處理系統(tǒng) CRF-APS- 500W 產(chǎn)品信息

產(chǎn)品特點

● 自動式等離子處理系統(tǒng)大氣等離子清洗機應用于FPC&PCB表面處理,復合型材料,玻璃,ITO等行業(yè)領域的表面處理;

● 超低溫處理過程,處理溫度可≤35°C以下;

● 設計的內置式冷卻系統(tǒng),提高和保證設備的使用壽命和性能;

● 等離子設備可以使用On-Line安裝方式,電子和離子的能量可達10eV以上,材料批處理的效率可高于低氣壓輝光放電裝置效率10倍以上。

 

等離子清洗機,又名等離子處理機,等離子表面處理設備。其基本原理是:在清理過程中,由工作中氣體在磁場的作用下所激起的等離子體與物件表層產(chǎn)生物理學和化學變化。物理反應原理是活性顆粒轟擊待清理表層,使污染物擺脫表層,污染物被排出;化學變化原理是各種各樣活性顆粒與污染物反應形成揮發(fā)物化學物質抽出,進而做到清理目的。一般用以氫、氮、氧、氬等工作氣體。


運用大氣等離子清洗機,能夠便捷地解決金屬材料、半導體材料、氧化物及其絕大多數(shù)的高聚物,比如聚丙稀、聚酯、聚酰亞胺膜、聚氯乙烷、環(huán)氧樹脂,乃至聚四氟乙烯進行處理。這使我們非常容易想到去除零件上的油漬,去除腕表上的,去除pcb線路板上的膠渣等,很多行業(yè)粘接附著力的提高大多數(shù)可以用大氣等離子清洗機來處理。


“清洗表層”是大氣等離子清洗機技術的關鍵,簡易地說清洗表層便是在待處理材料的表層打出成千上萬人眼看不到的小孔,同時在表層產(chǎn)生一層新的氧化膜,這樣就可以增大了材料的表面積,間接提升了材料表層的黏附性、相溶性、浸潤性、擴散性等。并且這種特性非常好的運用于手機、電視、微電子技術、半導體材料、汽車等領域,為很多公司解決了很多年未處理的難點。

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名稱(Name)

全自動On-Line式AP等離子處理系統(tǒng)

型號(Model)

CRF -APS- 500W

電源(Power supply)

220V/AC,50/60Hz

等離子功率(Power)

1000W/13.56MHz

有效處理高度(Processing height)

1-8mm(MAX)

有效處理寬幅(Processing width)

120-2000mm(Option)

處理速度(Processing speed)

0-5m/min

工作氣體(Gas)

AR+O2

 

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