設備配置：
一、手套箱
1.金屬薄膜沉積與器件封裝、檢測用手套箱1臺：
1.1 箱體尺寸：雙工位手套箱，長度約1800 mm。箱體預留鍍膜機接口法蘭，手套箱后板可安裝一臺鍍膜機，手套箱內(nèi)具有安裝器件封裝與性能檢測裝置的空間。
1.2 配置4只手套，可方便實現(xiàn)沉積室取送樣品，以及器件封裝與性能檢測等操作。
1.3 配置≥ 2套KF40標準接口。
2.手套箱技術指標與功能要求：
2.1箱體材料：不銹鋼箱體。
2.2箱體結(jié)構(gòu)：具有可拆卸的安全玻璃視窗;配雙層不銹鋼物架;帶有安全閥;
2.3密封性：視窗與箱體之間無泄漏，手套口與手套和視窗之間密封良好、耐用，無泄漏。
2.4泄露率：≤ 0.05vol%/h，泄漏率可檢測;H2O < 1ppm，O2< 1ppm。
2.5 凈化效率：高凈化效率，再生間隔時間長。
2.6 過渡倉：手套箱的箱體外側(cè)各另設置一個過渡艙，過渡倉尺寸≥ 150mm，長度為300 mm。
2.7傳送及操作方式：過渡倉內(nèi)設置可滑動托盤，樣品可通過移動托盤傳送至手套箱內(nèi)，托盤易于拆卸;手動操作。
2.8控制系統(tǒng)：用戶友好的中英文操作界面的觸屏。實現(xiàn)以下控制功能：工作壓力調(diào)節(jié)、箱內(nèi)氣體自動清洗、箱內(nèi)氣氛自動報警、顯示操作錯誤提示、可手動或自動檢測泄漏率等。
2.9 其他附件：
(1)真空泵，氣體純化系統(tǒng)：氣體純化柱、循環(huán)風機、有機溶劑吸附柱;
(2)水、氧分析儀：分析儀精度0.2 ppm或以上;分析儀輸出可直接連接到觸摸控制屏，可對氣體循環(huán)系統(tǒng)進行自動控制，實現(xiàn)自動循環(huán);可設定報警值;
(3)箱內(nèi)電源接口：配多孔電源插座。
(4)手套箱總體功能要求：樣品送入大(或小)過渡倉后，可在高純氣氛或真空氣氛條件下實現(xiàn)有機薄膜沉積、金屬電極薄膜沉積、器件封裝及性能檢測等功能。
(5)手套箱驗收標準：使用99.999%惰性氣源，空箱運轉(zhuǎn)，箱內(nèi)水氧含量均小于1ppm。
二、真空熱蒸發(fā)鍍膜機系統(tǒng)
1. 技術要求：
1.1真空度: 極限真空< 2.5*10-5Pa，工作真空度< 8*10-4Pa，抽速：從大氣抽至10-4Pa用時應≤ 30min;
1.2樣品架：
(1)可對樣品實施360度電動旋轉(zhuǎn)，轉(zhuǎn)速可在0 ~ 30轉(zhuǎn)/min內(nèi)連續(xù)調(diào)節(jié)。
(2)高度可調(diào)，蒸鍍距離在120-250mm范圍內(nèi)可調(diào)節(jié)。
1.3樣品尺寸：樣品基本尺寸為15×15mm/塊，可分別承裝如
下數(shù)量的樣品：
(1)3塊×3塊排列方式，可承裝9塊/次。
(2)4塊×4塊排列方式，可承裝16塊/次。
1.4各密封接口真空漏率≤ 5×10-9Torr?L/s(用進口氦質(zhì)譜檢漏儀檢測)。
1.5 膜厚控制設備：膜厚探頭2個，探測數(shù)據(jù)可同時顯示在膜厚儀上。
1.6 樣品臺(基片臺)配備擋板，蒸發(fā)源配備可有效防止不同材料交叉污染的遮擋裝置。
2. 配置：
2.1 真空沉積腔體：具有觀察窗，手動開門設置方便取樣和進樣。
2.2鍍膜機與手套箱的連接方式： 要求鍍膜機位于手套箱外(背后)，蒸發(fā)室在手套箱內(nèi)有方形門，可實現(xiàn)樣品由手套箱內(nèi)直接傳進蒸鍍室。要求蒸鍍室與箱體之間無泄漏，蒸鍍室口與手套箱接口密封良好、耐用，無泄漏。
2.3要求蒸發(fā)室在手套箱外另有一個門，手動開門設置，便于清理和維修操作。
2.4 蒸發(fā)源4套：可蒸發(fā)金(Au)、 銀(Ag)、鉻(Cr)、鈦(Ti)、鋁(Al)、鉑(Pt)、氧化鉬(MoO3)和LiF等材料。蒸發(fā)源相關的其他要求如下：
(1)蒸發(fā)電極可加載蒸發(fā)舟或者鎢籃，配備標準鉬舟及鎢藍各10個。
(2)蒸發(fā)電源1套，可轉(zhuǎn)換供四套蒸發(fā)源使用，可在一次抽真空操作后實現(xiàn)4種材料的順次蒸鍍，既可連續(xù)蒸鍍4層不同材料。
2.5 真空獲得系統(tǒng)：預抽機械泵1個，分子泵1個以及相應的附件，分子泵水冷系統(tǒng);分子泵與沉積室之間具備閉鎖條件。
2.6升降樣品架。
2.7真空測量系統(tǒng)。
2.8膜厚測試系統(tǒng)。
2.9工作臺：含真空計，蒸發(fā)源電源和相應控制系統(tǒng)，加熱源控制系統(tǒng)，膜厚測量系統(tǒng)，總電源控制區(qū)。
