產(chǎn)品概述:
PECVD系統(tǒng)是借助射頻使含有薄膜組成原子的氣體電離,在局部形成等離子體,而等離子體化學(xué)活性很強(qiáng),很容易發(fā)生反應(yīng),在基片上沉積出所期望的薄膜,此立式PECVD設(shè)備由真空立式管式爐、射頻電源、供氣系統(tǒng)、石英真空室、真空測(cè)量系統(tǒng)組成。
PECVD系統(tǒng)配置:
1.1200度開啟式滑動(dòng)單溫區(qū)真空管式爐
2.等離子射頻電源
3.多路質(zhì)量流量控制系統(tǒng)
4.真空系統(tǒng)
產(chǎn)品特性:
此立式PECVD設(shè)備溫度范圍寬;濺射區(qū)域長(zhǎng);整管可調(diào);精致小巧,性價(jià)比高,可實(shí)現(xiàn)快速升降溫,是實(shí)驗(yàn)室生長(zhǎng)薄膜石墨烯,金屬薄膜,陶瓷薄膜,復(fù)合薄膜等的理想選擇。立式PECVD系統(tǒng)以含鉬電阻絲為加熱元件,采用雙層殼體結(jié)構(gòu)和30段程序控溫儀表,移相觸發(fā)、可控硅控制,爐膛采用氧化鋁多晶纖維材料,具有溫場(chǎng)均衡、表面溫度低、升降溫度速率快、節(jié)能等優(yōu)點(diǎn)。