NF-300H
HTM PECVD設(shè)備
產(chǎn)品特點
- 高產(chǎn)能設(shè)計和可實現(xiàn)多種薄膜沉積的快速切換
- 可實現(xiàn)多層SiO2,SiN(ONON)堆疊功能
- 滿足300-600℃高溫沉積需求
- PM腔內(nèi)可進(jìn)行多片wafer沉積和wafer自動升降旋轉(zhuǎn)功能
- 通過S2安全認(rèn)證
NF-300H
HTM PECVD設(shè)備
產(chǎn)品特點
- 高產(chǎn)能設(shè)計和可實現(xiàn)多種薄膜沉積的快速切換
- 可實現(xiàn)多層SiO2,SiN(ONON)堆疊功能
- 滿足300-600℃高溫沉積需求
- PM腔內(nèi)可進(jìn)行多片wafer沉積和wafer自動升降旋轉(zhuǎn)功能
- 通過S2安全認(rèn)證
Copyright hbzhan.comAll Rights Reserved
環(huán)保在線 - 環(huán)保行業(yè)“互聯(lián)網(wǎng)+”服務(wù)平臺
*您想獲取產(chǎn)品的資料:
個人信息: