一、設備名稱:硅片氣氛保護輥道爐
二、設備用途:主要生產(chǎn)硅片(156x156x0.2mm)氧化性無塵生產(chǎn)實驗
三、主要技術參數(shù)
3.1爐膛尺寸:1380×500×100(L×W×H)mm
3.2外形尺寸:1980×1500×1100(L×W×H)mm
3.3額定溫度:1300℃
3.4工作溫度:1000℃
3.5控溫精度:≤±2℃
3.6爐內(nèi)溫差:≤±5℃
3.7爐外溫度:≤±40℃
3.8控溫組數(shù):3溫區(qū)3個控溫表
3.9工作速度:全窯按5min計算,400mm/min,
3.10調(diào)速范圍:120~700mm/min,
3.11加熱方式:電加熱,爐內(nèi)的上部安裝
3.12加熱元件:硅碳棒,上部安裝
3.13加熱功率:36 KW
3.14保溫功率:25KW
3.15加熱長度:1080mm
3.16爐襯材質(zhì):整條設備爐內(nèi)采用剛玉材質(zhì)作為爐膛
3.17保溫材料:輕質(zhì)保溫磚和纖維棉
3.18保溫層次:底部330mm,兩側面各350mm,爐頂400mm
3.19控制柜:獨立全自動控制
3.20設備結構:共1段
3.21冷卻方式:自然冷卻
3.22輸送方式:45°斜齒輪傳動
3.23速度控制:無極變頻控制
3.24進氣類別:氮氣和氧氣