該設(shè)備是一款帶有預熱系統(tǒng)的滑動PECVD系統(tǒng)。該系統(tǒng)包含等離子射頻電源,預熱爐,滑動式管式爐,4通道質(zhì)量流量供氣系統(tǒng)和旋片泵組成。可用于生長納米或CVD方法來制作各種薄膜。
產(chǎn)品用途:
PECVD系統(tǒng)是借助射頻使含有薄膜組成原子的氣體電離,在局部形成等離子體,而等離子體化學活性很強,很容易發(fā)生反應(yīng),在基片上沉積出所期望的薄膜。 該系統(tǒng)廣泛應(yīng)用于沉積高質(zhì)量、SiO2薄膜、Si3N4薄膜、SiC薄膜、硬質(zhì)薄膜、光學薄膜和炭納米管(CNT)、石墨烯材料等。是應(yīng)用于生長納米線或用CVD方法來制作各種薄膜的一款新的探索工具。
技術(shù)參數(shù):
產(chǎn)品名稱 | 帶預熱系統(tǒng)滑動式PECVD設(shè)備 |
滑軌管式爐部分 | |
產(chǎn)品型號 | PT-T1200-S06LC |
爐管尺寸 | 60*長度1600mm 可選其他直徑Φ50,80,100,120,150mm |
爐管材質(zhì) | 石英管 |
加熱區(qū) | 雙溫區(qū),每個溫區(qū)長度200mm |
工作溫度 | 1100℃ |
溫度 | 1200℃ |
溫控方式 | K型熱電偶 |
控制方式 | 觸屏控制 |
控溫精度 | ±1℃ |
溫控保護 | 具有超溫和斷偶保護功能 |
升溫速率 | 0-20ºC/min可調(diào) ,建議10ºC/min |
加熱元件 | 含鉬電阻絲 |
工作電壓 | AC 220V 單相 50HZ (電路電壓用戶可選擇定制) |
加熱功率 | 3KW |
爐膛材料 | 氧化鋁多晶纖維 |
爐體結(jié)構(gòu) | 爐體帶滑軌,可實現(xiàn)快速升溫和降溫 |
法蘭接頭 | 標配配有兩個不銹鋼真空法蘭,已安裝機械壓力表和不銹鋼截止閥 |
密封系統(tǒng) | 該爐爐管與法蘭之間采用硅膠O型圈擠壓密封、撤卸方便、可重復撤卸,氣密性好。 |
預熱爐 | |
主要參數(shù) | 溫度1100度 ,多段程序控溫,可將固體和液體原料放在預熱爐中,氣化后與氣體原料相混合 |
真空系統(tǒng)部分 | |
主要參數(shù) | 采用機械,可實現(xiàn)爐管內(nèi)的真空 |
氣路系統(tǒng)部分 | |
名稱 | 四路質(zhì)量流量計(量程可選) |
等離子電源部分 | |
功率范圍 | 0-500W(連續(xù)可調(diào)) |
售后服務(wù) | 質(zhì)保一年,終身保修(耗材類:高溫密封圈、爐管、加熱元件等及人為損壞不屬于質(zhì)保范圍) |
更多規(guī)格可根據(jù)客戶需求定制 |