超高光譜成像儀,波長范圍覆蓋400-2500nm
GRAND-EOS高光譜成像儀內(nèi)部集成了S-EOS 1.7,S-EOS 2.5或V-EOS凝視型高光譜相機(jī),自身就是一個小型測試平臺。
GRAND-EOS高光譜成像儀是由Photon ect公司研發(fā)的一個全局成像的超快高光譜成像儀,它將成像技術(shù)與光譜技術(shù)相結(jié)合,結(jié)合了高光譜顯微鏡系統(tǒng)和高光譜寬視場成像平臺,可以提供微觀模式和宏觀模式,波長范圍覆蓋VNIR(400-1000nm)和SWIR(900-1700nm)。
由于搭載了Photon ect的:布拉格光柵濾光技術(shù),可以篩選光的波段,并且提供高通過量,高效率的非偏振波長的光,利用這個濾光技術(shù),可以大視場成像,對用戶想要的任意波長范圍進(jìn)行掃描,利用一個百萬像素的傳感器,可以獲得樣品表面數(shù)百萬個位置點上的光譜信息GRAND-EOS專為反射,透射和發(fā)光成像而設(shè)計,非常適合基礎(chǔ)研究和工業(yè)應(yīng)用。
GRAND-EOS超高光譜成像儀產(chǎn)品規(guī)格參數(shù):
型號 | V-EOS | S-EOS1.7 | S-EOS 2.5 |
光譜范圍 | 400 - 1000nm | 900 - 1620 nm | 900 - 2500 nm |
光譜分辨(FWHM) | < 2 nm | < 4 nm | < 5 nm |
照相機(jī) | sCMOS | InGaAs相機(jī) (ZephIR™1.7 or Alizé™1.7) | MCT 相機(jī) |
波長精度 | FWHM/8 | ||
光譜通道 | 連續(xù)可調(diào) | ||
入口狹縫尺寸 | 每個波長無狹縫/全視野測量 | ||
曝光控制 | 物理規(guī)范™ 軟件控制 | ||
標(biāo)準(zhǔn)視場(可定制) | 160毫米x 160毫米,20毫米x 20毫米,可根據(jù)要求提供其他視野 | ||
預(yù)處理 | 圖像穩(wěn)定,空間濾波,統(tǒng)計工具,光譜提取,數(shù)據(jù)歸一化,光譜校正 | ||
高光譜數(shù)據(jù)格式 | HDF5, FITS | ||
軟件 | PHySpec,Windows10-64位 | ||
尺寸 | 150 cm x 85 cm x 82 cm | ||
重量 | 80kg | ||
電源要求 | 120 VAC / 12 A / 60 Hz,230 VAC / 12 A / 50 Hz | ||
可選附件 | 光度校準(zhǔn),激光激發(fā),白光照明,微成像模式:5倍,10倍。 |
GRAND-EOS超高光譜成像儀開啟了以下領(lǐng)域的全新可能
-光伏特性
-偽造品檢驗
-法醫(yī)研究
-食品和植物分類
GRAND-EOS超高光譜成像儀特點
-光譜通道連續(xù)可調(diào)
-從400 nm到1620 nm有高靈敏度
-非分散技術(shù)
-高性能CCD
-電動對焦
-控制和分析軟件