SD-3000型離子濺射儀外觀亮麗
做工精致，
旋鈕式定時(shí)器檔位清晰，手感舒適；特殊定制的真空指示和電流指示表頭沉穩(wěn)大氣，具有歐洲典雅風(fēng)范；前面板上的微泄漏氣閥門可以連接多種氣體；調(diào)節(jié)濺射電流大小，成膜速度快，質(zhì)量好；高壓輸出可使成膜更加牢固快速。功能控制和定時(shí)皆由CPU調(diào)度，使用范圍廣。
工作時(shí)結(jié)合內(nèi)部自動(dòng)控制電路很容易控制真空室壓強(qiáng)、電離電流及選擇所需的電離氣體，獲得鍍膜效果。
配有高位定性的飛躍真空泵
Bright appearance of ETD-3000 type ion sputtering instrument
Fine workmanship, knob timer gear clear, comfortable hand, special custom vacuum indication and current indication head calm atmosphere, with European elegant demeanor; micro leakage valve on the front panel can connect a variety of gas; adjust the size of sputtering current, fast film formation speed, good quality; high voltage output film forming firm Solid and fast. Functional control and timing are all scheduled by CPU, with a wide range of applications.
It is easy to control the vacuum chamber pressure, ionization current and choose the required ionization gas when working in conjunction with the internal automatic control circuit, so as to achieve the best coating effect.
Vacuum pump equipped with high quality
| 濺射氣體 | 濺射靶材 | 濺射電流 | 濺射速率 | 樣品倉尺寸 | 樣品臺(tái)尺寸 | 工作電壓 |
| 根據(jù)實(shí)驗(yàn)?zāi)康目商砑託鍤?，氮?dú)獾榷喾N氣體。 | 標(biāo)配靶材為金靶，厚度為50mm*0.1mm。也可根據(jù)實(shí)際情況配備銀靶、鉑靶等。 | 電流 50mA,工作電流30mA | 優(yōu)于4nm/min | 直徑160mm，高120mm | 樣品臺(tái)尺寸可安裝直徑50mm和直徑70mm的樣品臺(tái)，也可根據(jù)自身要求定制樣品臺(tái) | 220V (可做110V), 50HZ |
需要鍍膜的樣品
| 電子束敏感的樣品 | 非導(dǎo)電的樣品 | 新材料 |
| 主要包括生物樣品，塑 料樣品等。S EM中的電 子束具有較高能量，在 與樣品的相互作用過程中，它以熱的形式將部 分能量傳遞給樣品。如 果樣品是對(duì)電子束敏感 的材料，那這種相互作 用會(huì)破壞部分甚至整個(gè) 樣品結(jié)構(gòu)。這種情況下，用一種非電子束敏感材 料制備的表面鍍層就 可以起到保護(hù)層的作用，防止此類損傷； | 由于樣品不導(dǎo)電，其表 面帶有“電子陷阱”， 這種表面上的電子積累 被稱為“充電”。為了 消除荷電效應(yīng)，可在樣 品表面鍍一層金屬導(dǎo)電 層，鍍層作為一個(gè)導(dǎo)電 通道，將充電電子從材 料表面轉(zhuǎn)移走，消除荷 電效應(yīng)。在掃描電鏡成 像時(shí)，濺射材料增加信 噪比，從而獲得更好的成像質(zhì)量。 | 非導(dǎo)電材料實(shí)驗(yàn)電極制作觀察導(dǎo)電特性 |
