全數(shù)字化設(shè)備
維薩拉 K?PATENTS® 半導(dǎo)體行業(yè)用折光儀 PR-33-S 用于監(jiān)控工藝流程,可提供連續(xù)的以太網(wǎng)輸出信號(hào)。設(shè)計(jì)緊湊,直接串接在過(guò)程管路上。
滿量程下保持準(zhǔn)確穩(wěn)定測(cè)量
折射率測(cè)量范圍為 nD 1.3200–1.5300,相當(dāng)于 0-99%(重量百分比)。對(duì)于高濃度 HF,可選范圍為 nD 1.2600–1.4700。標(biāo)稱準(zhǔn)確度為 R.I.+ 0.0002,通常相當(dāng)于 0.1%(重量百分比),例如,鹽酸。
測(cè)量顆粒、氣泡、紊流及 PPM 濃度級(jí)別的微量雜質(zhì)影響。
測(cè)量顆粒、氣泡、紊流及 PPM 濃度級(jí)別的微量雜質(zhì)影響。
易于維護(hù)
光學(xué)核心設(shè)計(jì)。
無(wú)漂移,無(wú)需重新校準(zhǔn)。無(wú)需進(jìn)行機(jī)械調(diào)節(jié)。
無(wú)漂移,無(wú)需重新校準(zhǔn)。無(wú)需進(jìn)行機(jī)械調(diào)節(jié)。