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CK500高真空多靶磁控濺射鍍膜機(jī)

參考價(jià)面議
具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 公司名稱磐石創(chuàng)新(江蘇)電子裝備有限公司
  • 品       牌
  • 型       號(hào)
  • 所  在  地
  • 廠商性質(zhì)其他
  • 更新時(shí)間2022/10/22 16:43:14
  • 訪問次數(shù)405
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磐石創(chuàng)新(江蘇)電子裝備有限公司是一家集半導(dǎo)體、微電子、新材料工藝設(shè)備研發(fā)、生產(chǎn)、銷售于一體的高科技企業(yè),專業(yè)為客戶提供交鑰匙工程以及整體生產(chǎn)線改造升級(jí)解決方案??偛坑?018年從北京遷至江蘇徐州,北京設(shè)有研發(fā)中心。一期在徐州工業(yè)園租用辦公生產(chǎn)場(chǎng)地共14000平米,二期將啟動(dòng)規(guī)模為100畝土地的項(xiàng)目投建,2019年將啟動(dòng)項(xiàng)目投建,設(shè)立辦公大樓、研發(fā)樓、標(biāo)準(zhǔn)廠房。 公司匯聚了眾多相關(guān)行業(yè)、領(lǐng)域的高級(jí)管理和技術(shù)人才,具有自主研發(fā)、設(shè)計(jì)和制造工藝設(shè)備的能力。長(zhǎng)期與大專院校、研究院、用戶企業(yè)等相關(guān)單位建立開放式技術(shù)合作,旨在不斷解決工藝制備領(lǐng)域不斷變化的市場(chǎng)需求、不斷突破國外廠家長(zhǎng)期以來形成的技術(shù)壁壘。以靈活、創(chuàng)新的合作模式,打造高效的技術(shù)研發(fā)平臺(tái),不斷提升產(chǎn)品核心技術(shù)。 主營產(chǎn)品:半導(dǎo)體工藝爐設(shè)備、真空類設(shè)備、清洗類設(shè)備、輔助配件、智能工廠生產(chǎn)線。
CK500高真空多靶磁控濺射鍍膜機(jī)主要由鍍膜腔室(500H430mm),永磁圓形平面靶,真空系統(tǒng),旋轉(zhuǎn)加熱基片臺(tái),氣路系統(tǒng),電氣控制及報(bào)警保護(hù)系統(tǒng)等組成。
CK500高真空多靶磁控濺射鍍膜機(jī) 產(chǎn)品信息

CK500高真空多靶磁控濺射鍍膜機(jī)主要由鍍膜腔室(φ500×H430mm),永磁圓形平面靶,真空系統(tǒng),旋轉(zhuǎn)加熱基片臺(tái),氣路系統(tǒng),電氣控制及報(bào)警保護(hù)系統(tǒng)等組成。

設(shè)備特點(diǎn)及主要用途

CK500高真空多靶磁控濺射鍍膜機(jī)主要由真空專用不銹鋼腔室、四只3英寸圓形平面磁控靶;直流、射頻濺射電源各一臺(tái)。機(jī)械泵+分子泵高真空系統(tǒng)、旋轉(zhuǎn)、加熱基片臺(tái)(室溫至300±1℃可調(diào)可控)、機(jī)架、氣路、水路、邏輯按鈕控制及安全保護(hù)等組成。該設(shè)備選配電源可具備四靶共濺射功能,實(shí)現(xiàn)一機(jī)多用,可開發(fā)納米級(jí)單層或多層的導(dǎo)電膜、金屬膜、半導(dǎo)體膜、絕緣膜等。整機(jī)結(jié)構(gòu)緊湊、占地小、操作方便、抽真空速度快。

技術(shù)參數(shù)

真空腔室

φ500×H430mm

真空系統(tǒng)

復(fù)合分子泵+直聯(lián)旋片泵,氣動(dòng)真空閥門

真空極限

優(yōu)于8.0×10-5Pa

抽速

從大氣抽至6.0×10-3Pa≤15min

基片臺(tái)

基片臺(tái)尺寸:φ150mm

基片加熱與旋轉(zhuǎn)

襯底加熱:室溫~300℃,自動(dòng)測(cè)溫,PID控溫;基片旋轉(zhuǎn):0-50轉(zhuǎn)/分鐘,可調(diào)可控

濺射靶規(guī)格

3英寸,四只

膜厚不均勻性

≤±5%

控制方式

手動(dòng)按鈕控制;(自動(dòng)控制可選)

報(bào)警及保護(hù)

缺水報(bào)警,強(qiáng)制水冷,過流過壓等異常情況自動(dòng)執(zhí)行保護(hù)功能

占地面積

長(zhǎng)×寬: 1700×1600mm

15700106413
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