edi純水設(shè)備產(chǎn)品參數(shù)
給水:RO純水,一般水的電導率為4-30us/cm
PH:5.0-8.0(在此PH條件下,水硬度不能太高)
溫度:5-35℃
進水壓力: 大為4kg/cm2(60psi)小為1.5kg/cm2(25psi)
全自動工業(yè)反滲透超純水設(shè)備去離子水處理設(shè)備規(guī)格齊全
進水條件
反滲透RO產(chǎn)水,電導率1-20μs/cm,大允許電導率≤30μs/cm(NaCl)
pH值:7.5—9
溫度:15℃--35℃
進水壓力(DIN):0.15—0.4MPa
濃水進水壓力:0.10—0.3MPa
產(chǎn)水壓力(DOUT):0.05—0.25MPa
濃水出水壓力(COUT):0.02—0.2MPa
電除鹽EDI模塊采用模塊化技術(shù),通過不同數(shù)量的模塊搭配,可以滿足各種水處理要求。為發(fā)電、半導體、微電子、化工以及生物制藥等行業(yè)的高純水的生產(chǎn)提供了有力的保障。
具有CE、UL、和CSA標識,歐洲FDA衛(wèi)生認證通過ISO900L:2000認證能夠穩(wěn)定生產(chǎn)出電阻率高達18MΩ.cm的超純水。
全自動工業(yè)反滲透超純水設(shè)備去離子水處理設(shè)備規(guī)格齊全
工藝流程
原水→原水加壓泵→多介質(zhì)過濾器→活性炭過濾器→軟水器→精密過濾器→一級反滲透機→中間水箱→中間水泵→EDI系統(tǒng)→微孔過濾器→純水箱→用水點