「設備用途」
采用物理冶金提純法,主要用于冶金級工業(yè)硅粉的提純,用以制備太陽能級多晶硅原材料。
「技術(shù)指標」
產(chǎn)品型號 | VITD-2 | |
主真空室 | 立式圓筒型真空室,尺寸φ1500×2400mm,雙層水冷。 | |
真空系統(tǒng)配置 | 擴散泵,羅茨泵,機械泵,高真空氣動擋板閥。 | |
極限真空度 | 6.6×10-3Pa(冷態(tài)),漏率:≤1×10-8Pa.L/s;壓升率:≤6.7×10-1Pa./m。 | |
感應熔煉系統(tǒng) | 加熱溫度 | ≤1600℃。 |
水冷坩堝尺寸 | 內(nèi)徑500mm高度600mm。 | |
坩堝容量 | 200kg。 | |
坩堝運動行程 | 600mm;具有歸零位功能;設有位置檢測采用數(shù)顯光柵尺,分辨率1微米。 | |
坩堝運動速度 | 5-50mm/h,快速升降速度:5mm/s。 | |
在線加料系統(tǒng) | 可在線添 加輔助元素。 | |
測溫系統(tǒng) | 設有兩組測溫K偶。 | |
感應熔煉電源 | 400KW。 |