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Denton Vacuum - 金/碳鍍膜機(jī)

參考價(jià)面議
具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 公司名稱香港電子器材有限公司
  • 品       牌
  • 型       號(hào)
  • 所  在  地
  • 廠商性質(zhì)其他
  • 更新時(shí)間2022/11/9 16:15:07
  • 訪問次數(shù)325
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香港電子器材有限公司 成立于一九八五年,是一間為亞太地區(qū)半導(dǎo)體、電子及光電產(chǎn)業(yè)提供設(shè)備、材料以及技術(shù)銷售與服務(wù)的公司。早在九零年代中就分別在中國臺(tái)灣和新加坡設(shè)立分公司,以加強(qiáng)在遠(yuǎn)東地區(qū)的銷售及服務(wù)能力。九零年代末期,亦在上海設(shè)立辦事處,以迎接廿一世紀(jì)中國地區(qū)高科技領(lǐng)域飛騰時(shí)代的來臨。到目前為止, 公司已于香港、新加坡、中國臺(tái)灣、馬來西亞及中國多個(gè)城市(包括北京、成都、大連、上海、深圳、蘇州、天津、武漢及西安)設(shè)有服務(wù)中心, 為客戶提供的服務(wù)。香港電子 作為多種高科技設(shè)備制造商在遠(yuǎn)東地區(qū)的總代理,主要服務(wù)于半導(dǎo)體封裝廠、芯片生產(chǎn)廠、液晶顯示器廠、發(fā)光二極管廠、電路板廠,以及各大專院校和研究機(jī)構(gòu)。香港電子 所聘用的銷售及服務(wù)人員均為專業(yè)工程師,分別具備電子、電機(jī)、物理或化學(xué)博士、碩士或?qū)W士學(xué)位,并有豐富而實(shí)際的應(yīng)用經(jīng)驗(yàn)。他們可以熟練地運(yùn)用中英文﹝包括能以普通話或方言與客戶交流﹞。經(jīng)過原廠供貨商的培訓(xùn)后,均能迅速地為每一個(gè)客戶提供直接良好的完整解決方案和售后服務(wù)。完善的售后服務(wù)是香港電子一直以來所秉持的原則,為了維持良好的售后服務(wù),工程師均定期的前往設(shè)備制造原廠接受培訓(xùn)或再培訓(xùn),務(wù)求能為客戶提供的市場和產(chǎn)品信息,以及質(zhì)的售后服務(wù)。歡迎您瀏覽我們的網(wǎng)頁。若您對我們的產(chǎn)品有進(jìn)一步的需求或疑問,請與本公司總部或位于各地的辦事處聯(lián)絡(luò),我們將竭誠地為您提供及時(shí)的服務(wù)。
Denton Vacuum - 金/碳鍍膜機(jī)
Denton Vacuum - 金/碳鍍膜機(jī) 產(chǎn)品信息
美國Denton Vacuum
金/碳鍍膜機(jī)
丹頓真空公司位于美國費(fèi)城,是世界真空鍍膜設(shè)備制造商。 自一九年成立至今丹頓已為客戶制造了數(shù)千臺(tái)多種規(guī)格的蒸發(fā)設(shè)備、濺射和PECVD鍍膜系統(tǒng),用于大型工業(yè)生產(chǎn)、科研開發(fā)和小規(guī)模制造。 丹頓用于科研開發(fā)和小規(guī)模制造的中小型鍍膜設(shè)備據(jù)美國。

 

 

蒸發(fā)膜的厚度分布

蒸發(fā)源的排放分布特性可用于確定真空室中用于生產(chǎn)均勻厚度涂層的正確幾何形狀。

在大孔徑襯底上或者在裝載有許多小襯底的架子上生產(chǎn)均勻厚度的涂層可以通過對裝有測試件的架子進(jìn)行重復(fù)試驗(yàn)來完成。從一次試運(yùn)行到下一次試運(yùn)行,有意改變了幾何形狀 - 例如蒸發(fā)源的偏移量增加了,直到找到排列。

在本文中,我們首先測量了位于已知徑向距離處的測試件上的涂層的厚度,在真空蒸發(fā)室中的單個(gè)旋轉(zhuǎn)平板架上,并使用這些數(shù)據(jù)來查找源發(fā)射函數(shù)。然后使用已知的發(fā)射函數(shù)來確定在直徑上產(chǎn)生厚度均勻性的源偏移和弧線曲率。

 

更低的成本...更高的投資回報(bào)率 

離子輔助沉積可提供高要求的光學(xué)應(yīng)用所需的高品質(zhì),無缺陷,低應(yīng)力,環(huán)境穩(wěn)定(無漂移)的薄膜。

您將受益于:

  • 獨(dú)立控制離子電流密度和離子能量以優(yōu)化薄膜性能

  • 長期運(yùn)行,100%氧氣或氮?dú)夥磻?yīng)氣體穩(wěn)定運(yùn)行,延長運(yùn)行時(shí)無過程漂移

冷陰極離子源是差分泵浦器件,等離子體腔室的一端通向真空環(huán)境。離子源的操作參數(shù)和薄膜的質(zhì)量受控制真空度的參數(shù)的影響。在抽速很高的系統(tǒng)中制作好的薄膜要容易得多。當(dāng)比較IAD薄膜沉積參數(shù)時(shí),壓力的差異可能是由泵浦速率引起的。

要了解泵浦速率對冷陰極離子源的影響,請下載我們的技術(shù)文章 download our technical paper.

 

 

Desk V HP 專用電子顯微鏡樣品制備
– 金/碳鍍膜機(jī)特點(diǎn)(SEM / TEM / FE-SEM)

 

● 內(nèi)置泵系統(tǒng)
● 極短的沉積時(shí)間
● 一致的沉積參數(shù)
● 圖形界面彩色觸摸板
● 薄膜厚度控制
● 樣品清潔的蝕刻模式
● 多樣靶材材料選擇
● 更多可選功能
 

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