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Etchlab200 經(jīng)濟(jì)型反應(yīng)離子刻蝕機(jī)(可升級(jí))

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  • 公司名稱深圳市藍(lán)星宇電子科技有限公司
  • 品       牌
  • 型       號(hào)
  • 所  在  地
  • 廠商性質(zhì)其他
  • 更新時(shí)間2022/11/12 16:12:00
  • 訪問(wèn)次數(shù)229
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深圳市藍(lán)星宇電子科技有限公司,經(jīng)過(guò)十多年的紫外光專業(yè)技術(shù)沉淀,可以根據(jù)客戶特殊要求提供定制化服務(wù),研發(fā)設(shè)計(jì)組裝:紫外臭氧清洗機(jī)(UV清洗機(jī)),準(zhǔn)分子清洗機(jī),等離子清洗機(jī)/去膠機(jī)等科研以及生產(chǎn)設(shè)備,擁有自主品牌及注冊(cè)商標(biāo)。 同時(shí)我們代理歐美日多家高科技設(shè)備廠家高性價(jià)比產(chǎn)品, 始終堅(jiān)持創(chuàng)新, 技術(shù), 服務(wù), 誠(chéng)信的企業(yè)文化,為廣大中國(guó)及海外客戶提供的儀器設(shè)備和材料的整體解決方案。 應(yīng)用領(lǐng)域: 半導(dǎo)體/微納,光電/光學(xué), 生命科學(xué)/生物醫(yī)療等領(lǐng)域的研發(fā)和生產(chǎn), 客戶群體例如高等院校, 研究所,科技企業(yè)及醫(yī)療機(jī)構(gòu)等。 半導(dǎo)體/微納,光電/光學(xué) 產(chǎn)品主要有: 德國(guó)ParcanNano(Nano analytik)針尖光刻機(jī),電子束光刻機(jī), 激光直寫(xiě)光刻機(jī),紫外光刻機(jī),微納3D打印機(jī),德國(guó)Sentech刻蝕機(jī)/鍍膜機(jī)及原子沉積,英國(guó)HHV磁控/電子束/熱蒸發(fā)鍍膜機(jī),微波離子沉積機(jī)MPCVD,芬蘭Picosun原子層沉積機(jī),電子顯微鏡, 德國(guó)Bruker布魯克原子力顯微鏡/微納表征/光譜儀, 美國(guó)THERMO FISHER賽默飛光譜/色譜/質(zhì)譜/波譜儀,美國(guó)Sonix超聲波顯微鏡, 德國(guó)耐馳Netzsch熱分析儀, 德國(guó)Optosol吸收率發(fā)射率檢測(cè)儀, 日本SEN UV清洗機(jī)/UV清洗燈,美國(guó)Jelight紫外清洗機(jī)/紫外燈管,德國(guó)Diener等離子清洗機(jī)等*技術(shù)產(chǎn)品。 生命科學(xué)/生物醫(yī)療 產(chǎn)品主要有:PCR儀,核酸質(zhì)譜儀/核酸檢測(cè)儀,電子顯微鏡,紫外設(shè)備,光譜/色譜/質(zhì)譜/波譜儀,生物芯片,試劑,實(shí)驗(yàn)耗材等。 并可依據(jù)客戶需求,研發(fā)定制相關(guān)產(chǎn)品。我們以高性價(jià)比的優(yōu)勢(shì)為客戶提供優(yōu)質(zhì)的產(chǎn)品與服務(wù),為高等院校, 研究所,科技企業(yè)及醫(yī)療機(jī)構(gòu)等客戶提供儀器設(shè)備和材料。
Etchlab200 德國(guó)Sentech 經(jīng)濟(jì)型反應(yīng)離子刻蝕機(jī)(可升級(jí)), 具備低成本效益高的特點(diǎn),并且支持揭蓋直接放置樣片。EtchLab 200 允許通過(guò)載片器,實(shí)現(xiàn)多片工藝樣品的快速裝載,也可以直接快速地把樣品裝載在電極上。RIE等離子體刻蝕設(shè)備具備占地面積小,模塊化和靈活性等設(shè)計(jì)特點(diǎn)。
Etchlab200 經(jīng)濟(jì)型反應(yīng)離子刻蝕機(jī)(可升級(jí)) 產(chǎn)品信息

Etchlab200 德國(guó)Sentech 經(jīng)濟(jì)型反應(yīng)離子刻蝕機(jī)(可升級(jí))

經(jīng)濟(jì)型等離子刻蝕設(shè)備EtchLab 200 具備低成本效益高的特點(diǎn),并且支持揭蓋直接放置樣片。EtchLab 200 允許通過(guò)載片器,實(shí)現(xiàn)多片工藝樣品的快速裝載,也可以直接快速地把樣品裝載在電極上。RIE等離子體刻蝕設(shè)備具備占地面積小,模塊化和靈活性等設(shè)計(jì)特點(diǎn)。

商品描述:

低成本效益高

RIE等離子蝕刻機(jī)Etchlab 200結(jié)合平行板等離子體源設(shè)計(jì)與直接置片。

升級(jí)擴(kuò)展性

根據(jù)其模塊化設(shè)計(jì),等離子蝕刻機(jī)Etchlab 200可升級(jí)為更大的真空泵組,預(yù)真空室和更多的氣路。

SENTECH控制軟件

該等離子刻蝕機(jī)配備了用戶友好的強(qiáng)大軟件,具有模擬圖形用戶界面,參數(shù)窗口,工藝編輯窗口,數(shù)據(jù)記錄和用戶管理。

Etchlab 200 RIE等離子刻蝕機(jī)代表了直接置片等離子刻蝕機(jī)家族,它結(jié)合了RIE的平行板電極設(shè)計(jì)和直接置片的成本效益設(shè)計(jì)的優(yōu)點(diǎn)。Etchlab 200的特征是簡(jiǎn)單和快速的樣品加載,從零件到直徑為200mm或300mm的晶片直接加載到電極或載片器上。靈活性、模塊性和占地面積小是Etchlab 200 的設(shè)計(jì)特點(diǎn)。位于頂部電極和反應(yīng)腔體的診斷窗口可以方便地容納SENTECH激光干涉儀或OES和RGA系統(tǒng)。橢偏儀端口可用于SENTECH原位橢偏儀進(jìn)行原位監(jiān)測(cè)。

Etchlab 200等離子蝕刻機(jī)可以配置成用于刻蝕直接加載的材料,包括但不限于硅和硅化合物,化合物半導(dǎo)體,介質(zhì)和金屬。

Etchlab 200通過(guò)*的SENTECH控制軟件操作,使用遠(yuǎn)程現(xiàn)場(chǎng)總線技術(shù)和用戶友好的通用用戶界面。

Etchlab 200

  • RIE等離子蝕刻機(jī)
  • 開(kāi)蓋設(shè)計(jì)
  • 適用于200mm的晶片
  • 用于激光干涉儀和OES的診斷窗口
  • 選配橢偏儀接口

帶真空室的 Etchlab 200

  • 帶預(yù)真空室的RIE刻蝕機(jī)
  • 適用于4英寸到8英寸的晶片
  • 小片或碎片的載片器
  • 氯基刻蝕氣體
  • 更大的真空泵組

Etchlab 200-300

  • RIE等離子蝕刻機(jī)
  • 開(kāi)蓋設(shè)計(jì)
  • 適用于300mm的晶片
  • 用于激光干涉儀和OES的診斷窗口

15700106413
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