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RIE SI 591 等離子刻蝕機

參考價面議
具體成交價以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 公司名稱深圳市藍(lán)星宇電子科技有限公司
  • 品       牌
  • 型       號
  • 所  在  地
  • 廠商性質(zhì)其他
  • 更新時間2022/11/16 15:54:32
  • 訪問次數(shù)176
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深圳市藍(lán)星宇電子科技有限公司,經(jīng)過十多年的紫外光專業(yè)技術(shù)沉淀,可以根據(jù)客戶特殊要求提供定制化服務(wù),研發(fā)設(shè)計組裝:紫外臭氧清洗機(UV清洗機),準(zhǔn)分子清洗機,等離子清洗機/去膠機等科研以及生產(chǎn)設(shè)備,擁有自主品牌及注冊商標(biāo)。 同時我們代理歐美日多家高科技設(shè)備廠家高性價比產(chǎn)品, 始終堅持創(chuàng)新, 技術(shù), 服務(wù), 誠信的企業(yè)文化,為廣大中國及海外客戶提供的儀器設(shè)備和材料的整體解決方案。 應(yīng)用領(lǐng)域: 半導(dǎo)體/微納,光電/光學(xué), 生命科學(xué)/生物醫(yī)療等領(lǐng)域的研發(fā)和生產(chǎn), 客戶群體例如高等院校, 研究所,科技企業(yè)及醫(yī)療機構(gòu)等。 半導(dǎo)體/微納,光電/光學(xué) 產(chǎn)品主要有: 德國ParcanNano(Nano analytik)針尖光刻機,電子束光刻機, 激光直寫光刻機,紫外光刻機,微納3D打印機,德國Sentech刻蝕機/鍍膜機及原子沉積,英國HHV磁控/電子束/熱蒸發(fā)鍍膜機,微波離子沉積機MPCVD,芬蘭Picosun原子層沉積機,電子顯微鏡, 德國Bruker布魯克原子力顯微鏡/微納表征/光譜儀, 美國THERMO FISHER賽默飛光譜/色譜/質(zhì)譜/波譜儀,美國Sonix超聲波顯微鏡, 德國耐馳Netzsch熱分析儀, 德國Optosol吸收率發(fā)射率檢測儀, 日本SEN UV清洗機/UV清洗燈,美國Jelight紫外清洗機/紫外燈管,德國Diener等離子清洗機等*技術(shù)產(chǎn)品。 生命科學(xué)/生物醫(yī)療 產(chǎn)品主要有:PCR儀,核酸質(zhì)譜儀/核酸檢測儀,電子顯微鏡,紫外設(shè)備,光譜/色譜/質(zhì)譜/波譜儀,生物芯片,試劑,實驗耗材等。 并可依據(jù)客戶需求,研發(fā)定制相關(guān)產(chǎn)品。我們以高性價比的優(yōu)勢為客戶提供優(yōu)質(zhì)的產(chǎn)品與服務(wù),為高等院校, 研究所,科技企業(yè)及醫(yī)療機構(gòu)等客戶提供儀器設(shè)備和材料。
RIE 等離子刻蝕機 SI 591,特別適用于采用氟基和氯基氣體的工藝,可以通過預(yù)真空室和電腦控制的等離子工藝系統(tǒng)實現(xiàn)。SI 591的特點是占地空間小,高度靈活性,例如,SI 591可作為單一反應(yīng)腔系統(tǒng)集成在多腔系統(tǒng)中。
RIE SI 591 等離子刻蝕機 產(chǎn)品信息

ENTECH RIE SI591 平板電容式反應(yīng)離子刻蝕機

SI 591特別適用于采用氟基和氯基氣體的工藝,可以通過預(yù)真空室和電腦控制的等離子工藝系統(tǒng)實現(xiàn)。SI 591的特點是占地空間小,高度靈活性,例如,SI 591可作為單一反應(yīng)腔系統(tǒng)集成在多腔系統(tǒng)中。

工藝靈活性

RIE蝕刻機SI 591 特別適用于氯基和氟基等離子蝕刻工藝

占地面積小且模塊化程度高

SI 591 可配置為單個反應(yīng)腔或作為片盒到片盒裝載的多腔設(shè)備。

SENTECH控制軟件

我們的等離子蝕刻設(shè)備包括用功能強大的用戶友好軟件與模擬圖形用戶界面,參數(shù)窗口,工藝窗口,數(shù)據(jù)記錄和用戶管理。

預(yù)真空室和計算機控制的等離子體刻蝕工藝條件,使得SI 591 具有優(yōu)異的工藝再現(xiàn)性和等離子體蝕刻工藝靈活性。靈活性、模塊性和占地面積小是SI 591的設(shè)計特點。樣品直徑大可達200mm,通過載片器加載。SI 591可以配置為穿墻式操作或具有更多選項的小占地面積操作。

位于頂部電極和反應(yīng)腔體的更大診斷窗口可以輕易地容納SENTECH激光干涉儀或OES和RGA系統(tǒng)。橢偏儀端口可用于SENTECH橢偏儀進行原位監(jiān)測。

SI 591結(jié)合了計算機控制的RIE平行板電極設(shè)計的優(yōu)點和預(yù)真空室系統(tǒng)。SI 591可配置用于各種材料的刻蝕。在SENTECH,我們提供不同級別的自動化程度,從真空片盒載片到一個工藝腔室或多六個工藝模塊端口,可用于不同的蝕刻和沉積工藝模塊組成多腔系統(tǒng),目標(biāo)是高靈活性或高產(chǎn)量。SI 591也可用作多腔系統(tǒng)中的一個工藝模塊。

SI 591 compact

  • 可配置為至多6端口傳輸
  • 結(jié)合RIE, ICP-RIE和PECVD腔體
  • 手動預(yù)真空室置片或片盒裝載
  • 用于研發(fā)和高產(chǎn)量的多腔系統(tǒng)
  • SENTECH控制軟件

SI 591 cluster

  • 可配置為至多6端口傳輸
  • 結(jié)合RIE, ICP-RIE和PECVD腔體
  • 手動預(yù)真空室置片或片盒裝載
  • 用于研發(fā)和高產(chǎn)量的多腔系統(tǒng)
  • SENTECH控制軟件

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