電子束蒸發(fā)鍍膜機(jī)
型號：HVC-800DA
廠家：韓國Hanil真空
技術(shù)指標(biāo):
（1）可沉積各種金屬材料包括難熔金屬、絕緣材料的高純度、高質(zhì)量薄膜樣品.
（2）具有高真空(< 2×10-7 Torr ), 低腔溫（<90oC），適合Lift-Off制程要求.
（3）可裝載標(biāo)準(zhǔn)的2’’和4’’的晶片和不規(guī)則大小的樣品，樣品的均勻性 <3%.
（4）設(shè)置6個坩鍋，可以完成不同金屬薄膜的多層沉積.
（5）配有膜厚儀實時對膜厚進(jìn)行檢測，實現(xiàn)對薄膜的厚度的精確控制。
（6）配備軟件操作系統(tǒng)，可編制沉積程序，并可選擇進(jìn)行手動和自動制程。
主要功能及應(yīng)用范圍：主要用于光學(xué)膜、電學(xué)膜以及半導(dǎo)體領(lǐng)域的高質(zhì)量薄膜的沉積。
