等離子拋光機基本原理介紹：

  等離子電漿拋光設(shè)備是利用工件與拋光液中通電脫離的金屬離子來達(dá)到拋光工件表面的結(jié)果。需要拋光的工件體吸附在工件表面，因電漿作用于工件凸起處，等離子在鹽溶液中形成高電流沖擊而去除工件凸部位，等離子拋光機特點是去除速度快、不破壞工件結(jié)構(gòu)。在等離子拋光過程中，由于電流的不斷流動，工件表面凹凸部位不斷變化，粗糙表面逐漸被整平，工件毛刺也被磨平整。以此達(dá)到拋光金屬工件的目的。

等離子拋光設(shè)備運行原理

  等離子也稱為物質(zhì)的第四態(tài)，是一種電磁氣態(tài)放電現(xiàn)象，使氣態(tài)粒子部分電離，這種被電離的氣體包括原子、分子、原子團(tuán)、離子和電子。

  等離子的出現(xiàn)，就是在高溫高壓下，通過拋光劑水溶液的幫助，因在高溫高壓條件下，電子會脫離原子核而跑出來，這樣原子核就形成了一個帶正電子的離子，當(dāng)這些離子達(dá)到一定數(shù)量的時候可以組成為等離子態(tài)，等離子態(tài)能量很大，當(dāng)這些離子在和要拋光的物體摩擦?xí)r，頃刻間會使物體達(dá)到表面光亮的效果。速度是傳統(tǒng)拋光設(shè)備的。

同時，因為溶液不參加化學(xué)反應(yīng)，基本上零消耗，所以使用成本非常低，與傳統(tǒng)的化學(xué)電解拋光相比，成本基本可以忽略不計。

等離子拋光設(shè)備的優(yōu)勢

  等離子拋光機技術(shù)是一種全新的金屬表面處理工藝，等離子拋光過程中，僅是工件表面的分子層與等離子反應(yīng)，分子中原子一般間距為0.1～０.３nm，而大源智能等離子拋光技術(shù)處理深度為0.3～4.5納米。一般而言，拋光物的表面粗糙度在1mm范圍內(nèi)，因此等離子納米化學(xué)活化技術(shù)，可以的拋光工件表面，去除表面分子污染層，交叉鏈接表面化學(xué)物質(zhì)，在拋光金屬工件表面的同時，還能做到清潔油污的作用。

等離子拋光設(shè)備適用的行業(yè)：

  手機電子、集成電路制造、運動器材（高爾夫球具）、眼鏡制造、不銹鋼潔具、餐具、科研、手表飾品、汽車配件、LED制程、數(shù)碼配件、精密模具、航空航天及五金制品等行業(yè)，都需要用到等離子拋光設(shè)備。